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CVD掺硫金刚石薄膜的应力研究.pdf
第3l卷增刊 中 国 激 光 V0l
3l，Suppl．
2004年3月 CmNESEJOURNALOFLASERS March．2004
文章编号：0258_7026(2004)supplement旬480-03
CVD掺硫金刚石薄膜的应力研究
赵庆勋‘，王永杰1，南景宇2，杨景发1，闫正，
(1河北大学物理科学与技术学院，河北保定071002；2张家口师范专科学校物理系，河北张家口07印00)
摘要 以【a{AI，6r暇S】为工作气体，采用辉光等离子体辅助化学气相沉积(c哪技术，对掺琉金刚石薄膜的应力进行了研究，结
果表明：在典型的掺硫金刚石薄膜制备工艺条件下，随着硫碳比的增加，总应力和本征应力星减小趋势，在硫碳体积比届。=t2x
1胪时，总应力有最大值23GPa；在岛庐6．5×10。时．本征应力可以抵消热应力，而使总应力的绝对值最小，在此条件下所合成的金
刚石薄膜与衬底的附着性较好．有利于金剐石薄膜的稳定生长。分析认为金刚石薄膜的晶粒边界密度．印t碳相等杂质分别是产生
张力、压力的主要原因。
关健词 薄膜物理学；化学气相沉积；金刚石薄膜；掺杂；应力
中围分类号0埘文献标识码A
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