成像干涉光刻技术与离轴照明光刻技术的对比分析.pdfVIP

第26卷第7期 半导体学报 VoI．26No．7 CHINESE 0FSEMICoNDUCTORS 2005年7月 JOURNAL July，2005 成像干涉光刻技术与离轴照明光刻 技术的对比分析* 刘 娟1’2 张 锦1 冯伯儒1 (1中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室，成都610209) (2中国科学院研究生院，北京100039) 摘要：作为分辨率增强技术(RET)之一，离轴照明技术(0AI)通过调整照明方式，不但能提高分辨率还能很好地改 善焦深．成像干涉光刻技术(IIL)利用多次曝光分别记录物体空间频率的不同部分，极大地提高了成像质量，其中大 角度倾斜照明是对0AI的扩展．从成像原理和频域范围的角度对IIL和0AI进行了理论研究、计算模拟和对比分 析．结果表明，在同样条件下，IIL相对于0AI可更好地分辨细微特征． 关键词：倾斜照明；成像干涉光刻技术；离轴照明技术；光刻技术 PACC：4210J；4225；4230 中图分类号：TN405 文献标识码：A 文章编号：0253—4177(2005)07—1480—05 过调整照明系统，把频率空间的不同部分在不同曝 1 引言 光中分别引入系统而实现高分辨率成像，是对OAI 的扩展．本文从IIL和OAI的成像原理和频域范围的 传统投影光学光刻(OL)的分辨率由瑞利(Ray—角度进行比较，并通过具体的计算模拟对比分析，说 leigh)判据给出： 明了IIL较之于OAI的优越性，其结果令人满意． R一忌。A／NA (1) 式中 是，为工艺因子；NA为数值孔径；A为曝光波 2 IIL和OAI的原理 长．提高分辨率最直接的方法是增大NA，减小A，但 目前这些都存在很多限制．多年来，一些新技术不断 光学成像系统是信息传递的系统，输人物体(掩 涌现．分辨率增强技术(RET)，包括离轴照明技术模)的信息可以分解为不同的空间频率，像质的好坏 (OAI)[1’2’4|、相移掩模技术(PSM)[2’3]、光学邻近效取决于物体各种频率成分是否能经过系统到达像 面．物体结构越精细，其空间频率越高，衍射角越大， 应校正技术(OPC)[2’3]，都是在给定的A和NA下减 小曼，提高分辨率的方法，而OAI以其未增加掩模 相应的频谱在频谱面上离中心也越远．传统衍射受 制作难度且有效地改善焦深而独具优势． 限光刻系统中，透镜可视为低通滤波器[7]，存在光学 成像干涉光刻技术(IIL)[2“’51结合了OL可对截止频率厶，。=NAA，它是OL系统可传递的最大 任意图形成像和无掩模干涉光刻(IL)[6]，高分辨率空间频率，高于它的空间频率不能进入系统参与成 的优点，将投影光刻、大角度偏置照明、光瞳滤波和 像． 多曝光干涉集成，能以较高分辨率对任意图形成像， 如图1(a)所示，垂直曝光时只有靠近光轴的低 是一种理想的提高光刻分辨率的方法。Bruck等频分量进入系统到达像面，高频分量都被阻在外面， 人心1曾对各种RETs提出了一个普适模型，并分别所以OL的分辨率较低．离轴照明技术采用倾斜照 进行了简单的分析和讨论．和OAI类似，IIL也是通明方式，用从掩模透过的零级光和其中一个一级衍 *国家自然科学基金资助项目(批准号 刘娟女，1981年出生，硕士研究生，主要从事微光刻和微细加工技术研究．Email．biange@vip．371．net