Silvaco TCAD 工艺仿真3.pptVIP

Silvaco学习 Silvaco学习 上一讲知识回顾和本讲内容 上一讲： 介绍各个工艺的参数及其意义，举例说明 （这些工艺有：离子注入，扩散，淀积，刻蚀，外延和抛光） 这一讲内容 介绍光刻的各个步骤的仿真 工艺集成的概念 * * Silvaco学习 光刻示意图 * Silvaco学习 * 光学系统 曝光（接近式） 对于光刻仿真需要定义的有：光源（波长，强度），成像系统 （透镜，滤波），掩膜结构，曝光，烘烤，显影 依此即可大体确定光刻仿真的流程 OPTOLITH模块 OPTOLITH模块可对成像(imaging)，光阻曝光(exposure)，光阻烘烤（bake）和光阻显影（development）等工艺进行精确定义。 OPTOLITH提供光阻的库及其光学性质和显影时的特性（这些可根据需要修改）。 主要的小工艺步骤有：Mask,illumination,projection,filter,layout, image,expose,bake,develop * Silvaco学习 * MASK 命令MASK，导入掩膜，主要参数及说明如下： 掩膜也可以由Maskviews编辑得到 Layout命令可以描述掩膜特征 * Silvaco学习 * Maskviews * Silvaco学习 * 启动Maskviews： Maskviews的界面： Layout Layout，描述掩膜版图的特征，参数及说明如下： * Silvaco学习 * Layout的例子 * Silvaco学习 * go athena layout… structure outfile=mask1.str mask tonyplot mask1.str quit layout lay.clear x.lo=-2 x.hi=2 z.lo=-1 z.hi=1 layout lay.clear x.circle=0 z.circle=0 \ radius=.5 layout lay.clear x.circle=0 z.circle=0 \ radius=.5 ringwidth=.3 layout lay.clear x.tri=-0.4 z.tri=-0.5 \ height=1 width=1 illumination 命令illumination，设定基本的照明参数。主要参数及其说明如下： 例句 * Silvaco学习 * Illumination i.line x.tilt=0.1 z.tilt=0.1 intensity=1 Projection Projection光学投影系统的定义 参数只有na(光学投影系统的孔隙数)和flare(成像时出现的耀斑数) 例句 * Silvaco学习 * Projection na=.5 flare=1 Filter Filter定义发射孔(pupil)的类型和光源形状及其滤波特性。 主要参数及其说明如下（illum.filter也类似） * Silvaco学习 * Pupil.filter in.radius=0.1 out.radius=0.2 \ phase=0 transmit=0.1 illum.filter gaussian radius=0.05 angle=0 \ gamma=1 sigma=0.3 clear.fil 例句： Image Image(成像)，成像窗口定义 * Silvaco学习 * Image win.x.lo=-2 win.x.hi=2 win.z.lo=0 win.z.hi=2 dx=0 gap=50 例句： expose Expose（曝光），主要参数及说明如下： * Silvaco学习 * Expose dose=200 num.refl=5 all.mats Expose z.cross cross.val=.1 例句 Bake Bake定义对光阻的后曝光和后坚膜时的烘烤 * Silvaco学习 * Bake time=25 temp=150 reflow Bake time=10 temp=150 reflow dump dump.prefix=bake 例句 develop Develop（显影），主要参数及说明如下： * Silvaco学习 * Develop的例句 * Silvaco学习 * Develop kim dump=1 time=30 steps=10 Develop mack time=30 steps=5 substeps=30 Rate.develop name.resist=my e1.dill=1 e2.dill=0.5 e3.d