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摘要
摘要
在集成电路制造过程中,静电放电是众多可靠性问题中最重要的一项。随着
集成电路尺寸的日益缩小和工作频率的快速增加,对于射频集成电路的静电放电
保护设计是CMOS工艺下射频集成电路应用的关键性问题。射频集成电路的每个
I/O端都需要ESD保护电路。然而,ESD保护电路所带来的寄生效应,将会对宽
频段射频集成电路的阻抗匹配、噪声指数和功率增益三方面的射频性能有负面影
响。随着射频电路工作频率的增加,由ESD保护电路所引起的射频性能下降将更
明显。因此,射频前端电路和ESD保护电路需要整合设计以同时提高射频性能和
ESD耐受度。
本文讨论了射频ESD保护设计中的新挑战,ESD保护电路对射频核心电路的
影响,衡量射频ESD设计的方法,列举和讨论了CMOS工艺下射频电路的ESD
防护架构。重点研究了等面积分布式静电放电(ES.DESD)并在此基础上改进得到的
护元件分成几个等面积的单元安置在信号输入端到内部电路端之间,DS.DESD则
是将ESD防护器件分成面积不同的各部分,从信号端到核心电路按递减尺寸安置。
RF工
在分布式放大器(DA)上应用这两种分布式ESD保护电路,在TSMC
0.18¨m
艺条件下使用ADS(AdvancedDesignSystem)进行特性仿真。仿真结果证明:配置
这两种新型ESD保护架构,可以成功地在宽带射频放大器中整合设计射频性能和
ESD耐受度。
关键词:静电放电(ESD)保护电路宽频段射频电路等面积分布式静电放电
(ES.DESD)递减面积分布式静电放电(DS.DESD)分布式放大器(DA)
Abstract
Abstract
oneof serious issuesinIC
Electrostatic themost reliability
discharge(ESD)is
thecontinuousofCMOS and increaseof
scaling technologyrapid
manufacturing.With
forRFcircuitshasbeenoneofthe
frequencies,ESDprotectiondesign key
operating
to RFICsinCMOS ESD circuits
challengesimplement technology.On—chipprotection
areneededforallI/O in ESD-induced
padsintegratedcircuits.However,theparasitic
will RF onthree arenoise
effectscause aspects,whichfigure,
performancedegradation
willbecomemoreseriousasthe
powergain,andinputmatching.Thisimpact operation
RF circuitandtheESD
of
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