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YSZ薄膜的制备及应用_潘礼庆.pdfVIP

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YSZ薄膜的制备及应用_潘礼庆

6  4 Vol.6, No.4 2000 12 JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES Dec., 2000 :1007-4252(2000)04-0372-05 YSZ 1, 2 2 2 2 潘礼庆 , 王岭, 孙加林, 洪彦若 (1.北京科大天宇微电子材料开发有限公司 北京科技大学物 系, 北京100083; 2.北京科技大学固体电解质及冶金测试国家专业实验室, 北京100083) :研究了在NASICON 基板上使用溅射法制备的YSZ 薄膜的结构、晶相和导电性, 实验表明, 刚制备的YSZ 薄膜经750 ℃常规退火处 后, 薄膜表面致密、均匀、无裂 纹, 具备良好的导电性能。YSZ NASICON 组合再加上 a(NO )辅助电极构成的NO 3 2 X 气体传感器在450 ℃下响应迅速(响应时间约为3min)、稳定, 能检测到10ppm 量级的 NO 气体。 2 :YSZ 薄膜;固体电介质;电导率;气体传感器;溅射镀膜 :O484.1  :A 1  , NOx , , 、、NOx [ 1-3] 。NO , , x [4] [5-7] 、 。, 、、。 NASICON YSZ , Ho- [6] [7] tze , Yao β β-Al O NASICON NaNO 、NaNO NO 2 3 3 2 x , 、。 YSZ , , , 。YSZ , 、sol-gel [8-10] 。 , , ; sol-gel , ;YSZ 、、 , 。 NASICON YSZ , 、, YSZ NASICON , a(NO ) 3 2 , , , EMF , NOx 。 :2000-07-17;:2000-08-28 :(1964-), , , . 4            :YSZ             373 2  2.1 NASICON NASICON :Na CO ∶ZrO ∶SiO NH H PO 1.5:2:2:1 2 3 2 2 4 2 4 210 ℃4h, 900 ℃5h, , 300MPa Υ10mm , 1230 ℃15h 。Na O 2 , 。 NASICON X , NASICON 。 2.2  YSZ YSZ, US GUN Ⅱ, -4 , , 1.33×10 Pa, 0.67Pa。1015cm , Ar 。 RF 200300W ,, , , , 。 , XRD S-250MK3 (NH10000 ) 、, SI1125HF Model 283A YSZ 。 2.3  NO2 YSZ NASICON

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