晶体硅薄膜电池制备技术及研究现状.pdfVIP

等，翥鬻之 麓。墨。嚣。。三，。主i。三＆急。i差jn报g A总ug釉．2040期3 V。-2，N0 —==±====================；≥===。‘‘。‘2222222252222———一———— 晶体硅薄膜电池制备技术及研究现状 梁宗存1一，沈辉。，许宁生2 f1．中国科学院广州能源研究所，广东广州510070；2．中山大学物理系-广东广州510275) 【摘要】 晶体硅薄膜太阳电池近些年来得到广泛的研究和初步的商业化探索。根据所采用的晶体硅薄膜 沉积工艺中温度范围的不|司，晶体硅薄膜电池研究可分为高温路线和低温路线两个不同发展方向。本文分别从 这两个方向综述了日前国外晶体硅薄膜电池制各技术的最新进展，最新实验室研究结果c报导了晶体硅薄膜电 池商业化进展状况，指出厂晶体硅薄膜电池实现产业化必须解决的问题。 【关键词】 晶体硅薄膜电池；沉积：转换效率；衬底；高温i低温 中图分类号：TK514 文献标识码：A