- 1、本文档共8页,可阅读全部内容。
- 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
《201610236966-一种降低薄膜电池...-申请公开》.pdf
SooPAT
一种降低薄膜电池漏电流的方法
及薄膜电池
申请号:200910236966.4
申请日:2009-10-29
申请(专利权)人北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼
发明(设计)人白志民
主分类号 H01L31/18(2006.01)I
分类号 H01L31/18(2006.01)I
H01L31/075(2006.01)I
公开(公告)号102054896A
公开(公告)日2011-05-11
专利代理机构 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262
代理人 胡剑辉 王漪
注:本页蓝色字体部分可点击查询相关专利
(19)中华人民共和国国家知识产权局 *CN102054896A*
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 102054896 A
(43)申请公布 日 2011.05.11
(21)申请号 200910236966.4
(22)申请 日 2009.10.29
(71)申请人 北京北方微电子基地设备工艺研究
中心有限责任公司
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1 号
M5 楼
(72)发明人 白志民
(74)专利代理机构 北京安信方达知识产权代理
有限公司 11262
代理人 胡剑辉 王漪
(51) Int.C l.
H01L 31/18 (2006.01)
H01L 31/042 (2006.01)
H01L 31/075 (2006.01)
H01L 31/0216 (2006.01)
权利要求书 1 页 说明书 3 页 附图 2 页
(54) 发明名称
一种降低薄膜电池漏电流的方法及薄膜电池
(57) 摘要
本发明提供了一种降低薄膜电池漏电流的方
法,该方法是:在PIN 层上开设凹槽,该凹槽用于
沉积与透明导电极层相电连接的背电极层,所述
PIN 层包括沉积的P 型掺杂Si 层 ;在凹槽的侧壁
上沉积用于防止隧道电流从背电极层直接流入所
述PIN 层的P 掺杂Si 层的绝缘层。本发明还提
供一种薄膜电池,包括:透明导电极层、PIN 层、
凹槽、第一背电极层和第二背电极层 ;在所述凹
槽的侧壁上还依次沉积有绝缘层。本发明通过在
PIN 层的凹槽的侧壁上沉积绝缘层(优选采用SiN
和SiO2复合的绝缘层) 作为保护层,能够有效地
避免背电极到P 型掺杂Si 层的隧道电流,从而提
高短路电流和转化效率。
A
6
9
8
4
5
0
2
0
1
N
C
CN 102054896 A 权 利 要 求 书
CN 102054903 A 1/1 页
1. 一种降低薄膜电池漏电流的方法,其特征在于,该方法是:
在PIN 层上开设凹槽,该凹槽用于沉积与透明导电极层相电连接的背电极层,所述PIN
层包括沉积的P 型掺杂Si 层 ;
在凹槽的侧壁上沉积用于防止隧道电流从背电极层直接流入所述PIN 层的P 掺杂Si
层的绝缘层。
2. 如权利要求
文档评论(0)