《JBT 7369-2016 机械密封端面平面度检验方法》.pdfVIP

ICS 21.140 J 22 备案号：32124—2011 中 华 人 民 共 和 国 机 械 行 业 标 准 JB/T 7369—2011 代替 JB/T 7369—1994 机械密封端面平面度 检验方法 Flatness testing method of mechanical seal 2011-05-18 发布 2011-08-01 实施 中华人民共和国工业和信息化部 发布 JB/T 7369—2011 目 次 前言II 1 范围 1 2 术语和定义 1 2.1 干涉图 1 2.2 干涉光谱带（光带） 1 3 检验装置 1 4 检验程序 1 5 平面度测定值的判读 1 附录A （资料性附录）常见干涉光谱带图示例 3 附录B （资料性附录）推荐采用的检验装置结构示意简图 5 I JB/T 7369—2011 前 言 本标准按照GB/T 1.1—2009给出的规则起草。 本标准代替JB/T 7369—1994 《机械密封端面平面度检验方法》，与JB/T 7369—1994相比主要技术 变化如下： ——修改了附录A 。 本标准由中国机械工业联合会提出。 本标准由全国机械密封标准化技术委员会（SAC/TC491 ）归口。 本标准起草单位：合肥通用机械研究院。 本标准主要起草人：李小瓯、郑国运、沈宗沼、李香。 本标准所代替标准的历次版本发布情况为： ——JB/T 7369—1994。 II JB/T 7369—2011 机械密封端面平面度检验方法 1 范围 本标准规定了机械密封端面平面度的术语和定义、检验装置、检验程序、平面度测定值的判读等内容。 本标准适用于采用单色光源的光学法检验机械密封环端面平面度。 2 术语和定义 下列术语和定义适用于本文件。 2.1 干涉图 interference figure 光波干涉产生的干涉条纹（亮带或暗带）所组成的图形。 2.2 干涉光谱带 （光带） interference spectral band 干涉图上的暗带。 3 检验装置 3.1 推荐使用的检验装置结构见附录 B 。 3.2 光源应为单色光源，推荐使用钠光源。 3.3 检验用光学平晶应为一级精度（其平面度应在 0.02 μm～0.10 μm 之间），光学平晶的直径应大于 被检密封环端面的外径。