无机溶胶tiolt;,2gt;纳米线的制备及结构与可见光催化性能的研究.pdf

中文摘要 本文旨在进一步提高无机溶胶纳米线的可见光催化性能，拟从调整氧化钛纳 米线阵列结构及其对光的吸收能力等方面入手。首先对多孔氧化铝模板制备工艺 进行了改进，在此基础上制各了不同孔径和孔间距的氧化铝模板；然后研究了无 机溶胶(RS)的性能，并对无机溶胶制备纳米线的电泳沉积工艺进行了研究和 改进，利用氧化铝模板制备出不同结构的氧化钛纳米线阵列，并且对其结构对纳 米线可见光催化性能影响机理进行了研究。最后研究了无机溶胶纳米线的光催化 机理，对无机溶胶纳米线进行了金属离子掺杂和半导体掺杂，并系统研究掺杂纳 米线的可见光催化性能及机理。 ．根据多孔氧化铝模板制备的影响因素，对氧化铝模板的扩孔工艺进行了改 进，采用超声扩孔的方式，30min扩孔的效果和60min浸渍扩孔的效果一致，并 且避免了长时间浸渍扩孔对模板的影响。采用阳极氧化3h可以制备出合适孔深 的氧化铝模板。通过控制氧化电压和电解液温度，制备了不同孔径和孔间距的氧 化铝模板。 研究了无机溶胶的性能，并对其纳米线的制备工艺进行了研究，电泳时间为 2min，后处理时间为4min的工艺既可以保证模板表面不会形成薄膜，而且可以 保证纳米线裸露出来的长度适中，防止纳米线裸露过长而相互倒伏。制备出直径 为30nm．70nm的纳米线，研究结构对其光催化性能的影响。 研究无机溶胶纳米线的光催化机理，对无机溶胶纳米线进行金属离子和半导 体掺杂，系统研究了高价金属离子(、矿，C，，Nb5+)和半导体(InV04)掺杂 纳米线的光催化性能，分析了不同掺杂纳米线的光催化机理，并比较不同掺杂纳 米线的光催化性能。 关键词： 溶胶．电泳模板法：无机溶胶(RS)：氧化钛纳米线阵列；掺杂；可 见光催化活性 ABSTRACT Inthis RSsolnanowirestructurewouldbe andtheir paper’the array’S adjusted to absorbing wouldbeenhanced nanowire lightcapacity improve Visible—light photocatalytic of anodic acitivity．First,thepreparationporous alumina(PAA) was newmethoddifferentdiameter template and optimized，with pore pore space PAAwere ofRSsolwas the prepared．11heproperties studiedand of preparation wasalso effectofstructureon sol-electrophoresisoptimized．The Visible-light of nanowires Ti02 inP从andtheeffectofmetal photocatalyticacitivity prepared onRSsol nanowireandtheir doping，semi