离子束辅助沉积rblt;,2gt;aln和zrblt;,2gt;wnlt;,xgt;纳米多层膜的研究.pdf

中文摘要 摘要 本文利用超高真空离子束辅助沉积技术在siooo)基底上设计合成ZrB2／AIN 和ZrB2肘及Zrl2／WNx纳米多层膜。利用表面轮廓仪和纳米力学测试系统研究 薄膜的机械性能，包括表面硬度、弹性模量以及薄膜与基底的附着力；还通过x 射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)等分析手段研究了薄膜的结构特征。揭 示多层膜体系的结构和性能以及工艺参数之间的相互关系，找出合成最佳多层膜 的工艺，使多层膜体系的硬度和附着力优于单质薄膜材料。合成具有高硬度、高 模量和低应力的纳米多层膜，希望成为应用于刀具的涂层材料，提高刀具的切削 速率，延长刀具的使用寿命。 制周期、调制比例和离子轰击能量等实验条件对薄膜结构与性能的影响。SEM 和低角X射线衍射证明了多层结构。高角XRD表明单层膜ZrB2和A1N具有典 XRD也表明不同的轰击能量能引诱不同的结晶状态。多层膜的纳米压痕硬度与 弹性模量值大多都高于两种个体材料硬度的平均值。当调制周期为7．6nnl，ZrB2 和AlN的调制比例为3：2，离子轰击能量为300eV，氮离子束流为5mA时薄膜 具有最高的硬度(31 GPa)和临界载荷(57mN)。 用离子束辅助沉积系统制备了几个系列的ZrB2脚和ZrB2／WNX纳米多层膜， 分析了调制周期、调制比例、离子轰击能量和基底温度等实验条件对薄膜结构与 性能的影响。SEM和低角X射线衍射表明薄膜具有界面清晰的多层结构。高角 XRD表明w的单层膜为立方结构，WNX单层具有六方和立方混合相结构，ZrB2 薄膜显示出了典型的六方结构，多层膜出现混合晶向和非晶两种状态。实验表明 当调制周期为9．6 eV， nm，ZrB2和WNx的调制比例为3：1，离子轰击能量为200 硬度和弹性模量分别超过30GPa和406 GPa；特别在基底温度是430℃，离子轰 击能量为200 GPa，并且弹性模量和残余 eV，ZrB2／WNx纳米多层膜硬度达到36．6 应力及膜基结合力也获得很好的效果。 以上结果表明，用超高真空离子束辅助沉积技术制备ZrB2／A1N和ZrB2闸及 中文摘要 ZrB2／WN工纳米多层薄膜，在一定优选的工艺条件下，可以生成硬度高、附着力 好、应力低的薄膜，可望成为应用于刀具的涂层材料，提高刀具的切削速率，延 长刀具使用寿命。 关键词：离子束辅助沉积，纳米多层膜，硬度，力学性能，调制周期，离子轰 击能量 英文摘要 ABSTRACT This the and of reporteddesign ZrB2／A1N，ZrB2俩and paper synthesis ZrB2／WNx withnanoscale on multilayeredcoatings bilayer Si(1 period 00)by vacuumonbeam ultrahigh assisted mechanical of deposition(maD)．Theproperties the modulusand hardness，elasticadhesionwere