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Discharge Optical Emission Spectroscopy 辉光放电直读光谱仪 样品激发原理图 直流光源结构图 辉光放电光谱仪结构图 辉光放电光谱仪功能 元素含量分析 表面深度分布分析 溅射率数据库 ( DC 和 RF 光源 ) 表面深度分布分析 辉光光谱仪的优势 “冷光源”使得具有最低的背景干扰 都采用原子谱线进行分析 动态线性范围最大 ppm - 100% 分析波长范围 120 nm -800 nm;能对包括H, O, N, Cl等元素在内的几乎所有元素进行准确定量分析 在固体样品中元素的最佳检出限可达 0.1 -10 ppm 高溅射率时能在几分钟内溅射到200um 应用范例 元素含量分析 控制电镀生产线 镀层工业控制 热浸镀 缺陷分析 退火控制 渗氮,碳氮共渗 镀锡钢板生产线 覆膜层控制 均相镀层 (钢铁镀黄铜) 镀层夹杂控制 (铜镀银) 物理蒸汽沉积镀层(PVD) 氧化层 非导体涂层 元素含量分析 钢 铸铁:白口铸铁,灰铸铁,高合金铸铁 纯金属及各种合金(Cu Zn Ni Co Pb Sn Al W Ti 等) 金属粉末,炉渣 元素含量分析 多孔材料 (采用特殊样品夹) 薄片样品: 0.08 mm 以上 线材,丝材样品 紧固件等小样品 弹簧 表面深度分析 应用范例 元素含量分析 控制电镀生产线 镀层工业控制 热浸镀 缺陷分析 退火控制 渗氮,碳氮共渗 镀锡钢板生产线 覆膜层控制 均相镀层 (钢铁镀黄铜) 镀层夹杂控制 (铜镀银) 物理蒸汽沉积镀层(PVD) 氧化层 非导体涂层 GD-OES 优越性 分析表现 样品卡具 工具钢嵌入有机胶 用2.5mm 阳极激发 紧固件 应用范例 元素含量分析 控制电镀生产线 镀层工业控制 热浸镀 缺陷分析 退火控制 渗氮,碳氮共渗 镀锡钢板生产线 覆膜层控制 均相镀层 (钢铁镀黄铜) 镀层夹杂控制 (铜镀银) 物理蒸汽沉积镀层(PVD) 氧化层 非导体涂层 辉光放电技术获取的信息 ... 应用范例 元素含量分析 控制电镀生产线 镀层工业控制 热浸镀 缺陷分析 退火控制 渗氮,碳氮共渗 镀锡钢板生产线 覆膜层控制 均相镀层 (钢铁镀黄铜) 镀层夹杂控制 (铜镀银) 物理蒸汽沉积镀层(PVD) 氧化层 非导体涂层 热浸镀-镀层中全铝重量 热浸镀-表面层铝重量 热浸镀-辉光光谱的应用 测定锌镀层重量 测定镀层中全铝重量 测定表层中铝重量 获得相关数据仅需要几分钟时间 另外,表面深度分布分析还可以给出如下信息: 镀层厚度,过渡层结合情况 镀层均匀度 结合层污染物鉴定 Zn/Ni 镀层应用范例 钢板表面清洁度 涂镀工艺过程中污染 Zn/Ni 镀层 - 未污染 Zn/Ni 镀层 - 钙污染 应用范例 元素含量分析 控制电镀生产线 镀层工业控制 热浸镀 缺陷分析 退火控制 渗氮,碳氮共渗 镀锡钢板生产线 覆膜层控制 均相镀层 (钢铁镀黄铜) 镀层夹杂控制 (铜镀银) 物理蒸汽沉积镀层(PVD) 氧化层 非导体涂层 辉光光谱:检测和鉴定缺陷 热镀钢板应用 检测和鉴定夹杂物 气泡 应用范例 元素含量分析 控制电镀生产线 镀层工业控制 热浸镀 缺陷分析 退火控制 渗氮,碳氮共渗 镀锡钢板生产线 覆膜层控制 均相镀层 (钢铁镀黄铜) 镀层夹杂控制 (铜镀银) 物理蒸汽沉积镀层(PVD) 氧化层 非导体涂层 退火 - 退火前的镍镀层 应用范例 元素含量分析 控制电镀生产线 镀层工业控制 热浸镀 缺陷分析 退火控制 渗氮,碳氮共渗 辉光光谱:跟踪工艺过程 在渗氮工艺中的应用 氮的富集过程分两个步骤 氮的扩散 渗氮工艺 - 离子处理 碳氮共渗工艺控制 碳氮共渗工艺控制 碳氮共渗 碳氮共渗 应用范例 元素含量分析 控制电镀生产线 镀层工业控制 热浸镀 缺陷分析 退火控制 渗氮,碳氮共渗 镀锡钢板生产线 镀锡 - 锡镀层/结合层/基材 镀锡 - 不同温度作用 应用范例 元素含量分析 控制电镀生产线 镀层工业控制 热浸镀 缺陷分析 退火控制 渗氮,碳氮共渗 镀锡钢板生产线 覆膜层控制 铝覆膜 两层铝箔高压下加热 空调,散热器及相关产品 汽车工业 飞机铝蒙皮 航空工业 界面元素迁移造成的问题 (主要 Cu) 表面污染造成的问题 (Mg, Cu) 铝覆膜 铝覆膜 - 界面元素迁移 铅覆膜 铅覆膜 - 两层对比 应用范例 元素含量分析 控制电镀生产线 镀层工业控制 热浸镀 缺陷分析 退火控制 渗氮,碳氮共渗 镀锡钢板生产线 覆膜层控制 均相镀层 (钢铁镀黄铜) 黄铜镀层工艺过程控制 钢板黄铜镀层 黄铜镀层 - 均匀度 黄铜镀层 - 均匀度 应用范例 元素
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