磁控溅射电源控策略的研究.pdfVIP

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  • 2015-12-07 发布于贵州
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磁控溅射电源控策略的研究

摘要 论文题目:磁控溅射电源控制策略的研究 学科名称:电力电子与电力传动 研究生:韩维 签名: 指导教师:孙强教授 签名: 摘 要 磁控溅射技术具有轰击粒子能量高、制备的薄膜致密性和均匀性好、便于大面积成膜 等优点被广泛应用于能源、材料、物质、环境等诸多专业领域,这些领域中所采用的磁控 溅射电源稳定性和可靠性已无法满足高要求的镀膜工艺。近年来,数字化、智能化加工电 源已经成为了一种发展趋势。 本文从磁控溅射工艺中主要存在起辉成功率低、恒流特性较差、易发生打弧等问题出 发,对磁控溅射电源的恒流特性和抑弧进行了分析与研究,采用模糊比例积分(Fuzzy-PI) 结合负载电流前馈复合控制策略使系统达到了良好的输出性能。首先根据溅射工艺与等离 子体负载特性建立了等离子体负载等效电路模型;采用状态空间平均法建立了电源系统的 数学模型,设计了其电流闭环控制的PI参数:然后针对等离子体负载特性及专家经验建 合理性与有效性。在磁控溅射电源主电路的基础上,以高

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