《太阳能电池工艺培训资料》.pptVIP

* 检验标准 当硅片从HF槽出来时，观察其表面是否脱水，如果脱水，则表明磷硅玻璃已去除干净；如果表面还沾有水珠，则表明磷硅玻璃未被去除干净。 当硅片从出料口流出时候，如果发现尾部有部分水珠，HF槽中可以适当补些HF。 去PSG原理： SiNx:H减反射膜 * SiNx:H简介 物理性质和化学性质： 结构致密，硬度大 能抵御碱金属离子的侵蚀 介电强度高 耐湿性好 耐一般的酸碱，除HF和热H3PO4 * PECVD =Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 即“等离子增强型化学气相沉积”，是一种化学气相沉积 PECVD是借助微波使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。 PECVD * 安全事项 使用和维护本设备时必须严格遵守操作规程和安全规则，因为： 本设备的工艺气体为SiH4和NH3，二者均有毒，且SiH4易燃易爆。 本设备运行时会产生微波辐射，每次维护后和停机一段时间再开机前都要检测微波是否泄漏。 * 等离子体 等离子体:由于物质分子热运动加剧,相互间的碰撞就会使气体分子产生电离,这样物质就会变成自由运动并由相互作用的正离子,电子和中性粒子组成的混合物 * Ｐ