电路与模拟电子技术原理 作者 胡世昌 第6章2晶体管.pptVIP

电路与模拟电子技术原理 作者 胡世昌 第6章2晶体管.ppt

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电路与模拟电子技术 原理 第六章 半导体元器件 第6章 半导体元器件 6.1 从电子管到晶体管 6.2 半导体 6.3 半导体二极管 6.4 晶体管 6.5 场效应晶体管 6.4 晶体管 6.4.1 晶体管的基本结构 6.4.2 晶体管的工作原理 6.4.3 晶体管的特性 6.4.4 晶体管的应用 6.4.1 晶体管的基本结构 晶体管的基本结构(续) 晶体管不止是连接在一起的两个二极管→→重要特征:电流放大作用 晶体管之所以能够具有电流放大作用,是因为其内部构造上的特点: 基区很薄, 发射区掺杂浓度高, 集电结面积大。 6.4 晶体管 6.4.1 晶体管的基本结构 6.4.2 晶体管的工作原理 6.4.3 晶体管的特性 6.4.4 晶体管的应用 6.4.2 晶体管的工作原理 1.晶体管的放大 2.晶体管的饱和 3.晶体管的截止 4.晶体管的倒置 5.晶体管放大电路的三种组态 1.晶体管的放大 如果发射结正偏、集电结反偏,晶体管将处于放大状态 IC=βIB 上式说明,当发射结正偏、集电结反偏时,IC的值受IB的值控制, 或者说,IC放大了IB,这里“放大”的实质是控制。 晶体管的放大(续) 晶体管放大状态特征方程 已知放大状态特性 IC=βIB 根据KCL  IB+IC=IE 得到    IE=(1+β)IB 由于β值比1大得多,对比可知,在放大状态下,晶体管的IE只比IC大了一点点,实际上二者几乎相等。 晶体管的放大(续) 集电极电流IC和基极电流IB的比值β,取决于晶体管的内部构造。 发射的电子,有多少被复合? 有多少到达集电结? 取决于结构! 2.晶体管的饱和 晶体管饱和状态特征方程 发射结正偏、集电结正偏电压很小时,ICβIB,晶体管进入饱和状态。 ICβIB IB+IC=IE ※饱和※ → IC跟不上βIB了, 内部载流子运动饱和了 3.晶体管的截止 发射结反偏(或者正偏电压小于PN结的导通电压),集电结反偏时, IE、IB、IC都近似为零,晶体管处于截止状态。 晶体管截止状态特征方程 IE≈0 IB ≈ 0 IC ≈0 4.晶体管的倒置 发射结反偏,集电结正偏时, 相当于将发射极与集电极对调使用,称为晶体管的倒置工作状态。 倒置工作的晶体管不具有放大作用。 倒置工作状态下,增大基极电流,晶体管也能进入饱和状态; 减小集电结正偏电压到导通电压以下,晶体管也会截止。 倒置工作状态主要应用于集成电路中的特定场合 晶体管的的四种工作状态 四种工作状态对应的电压电流关系 5.晶体管放大电路的三种组态 作为放大器件,晶体管在模拟电路中的作用,就是把输入信号“放大”为输出信号,如图6-22(a)所示。 在电路中,输入信号和输出信号只能用电压量或电流量来表示,而电压和电流的输入和输出必须有两个端点才行,所以电路中的放大器的输入端口和输出端口都必须具有两个端点,如图6-22(b)所示。 晶体管放大电路的公共端 晶体管只有三个端子,为了实现输入输出信号的接入,必须选择一个端子作为输入和输出端口的公共端 ,如图6-22(c)所示。 晶体管放大电路的三种组态 三种组态,即三种连接方式 都必须确保发射结正偏、集电结反偏 放大状态时晶体管的电流分配关系 6.4 晶体管 6.4.1 晶体管的基本结构 6.4.2 晶体管的工作原理 6.4.3 晶体管的特性 6.4.4 晶体管的应用 6.4.3 晶体管的特性 双端口放大器件的特性可以用输入、输出端口上的电压电流关系来表示。 Au=uo/ui Ai=io/ii Ri=ui/ii Ro=uo/io …… 怎样描述晶体管的特性 1.晶体管的电流控制特性 2.晶体管的电压控制特性 3.晶体管的共发射极输出特性 4.晶体管的极限参数 1.晶体管的电流控制特性 晶体管最重要的特性,就是基极电流对集电极电流的控制作用。 IC=βIB 请根据KCL(IB+IC=IE )推导β 和α的关系。 2.晶体管的电压控制特性 UCE对IB的影响 UCE对IB的影响 UCE增加,IB减小 随着UCE的增加,输入特性曲线右移 UCE增加到1V以上,IB基本上不再右移。 晶体管电压对电流的控制 输入特性的定义为 其他电流受电压的控制关系 电压控制电流的放大器件 IC随UCE的增加而线性增大,随UBE的增加而指数增大,说明IC受UBE的影响更明显, 所以,晶体管不仅可以看成是一个电流控制电流的放大器件(IC=βIB),还可以看成是一个电压控制电流(UBE控制IC)的放大器件, 只不过电流控制电流的关系是线性关系,而电压控制电流的关系是指数关系。 晶体管的电压控制特性曲线 3.晶体管的共发射极输出

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