HDDR法制备dFeB永磁材料的研究.pdfVIP

东北大学硕士论文 摘要 HDDR法制备NdFeB永磁材料的研究 摘 要 HDDR(氢化H、歧化D、脱鬣D及蒋亿合R工艺楚靥来翻作粘缔磁体酶 一种羹要的方法，HDDR工艺可以获得其有高矫顾力的Nd—Fe—B磁粉。因蒸工 艺过程及设备简单，粉末磁性均匀，收得率高，成本低，投资少，觅效快，易 于推广，所以发展前景十分广阔。 本实验主要研究HDDR工蕊对均匀亿和未均匀化 Ndl2 5Fe625ColT．486 2Fe6l6 5Fe634．。Col7．486．6Zro．IGat(x=O．1，0，5，1．O)；Ndl26GaIo；Ndl4 o 6 5A15；Ndl{．2Fe6 lGao．s署日Ndl4．2FeBzeol6287．oZroIAl Col6287．oZrolGaoo 2CoIB．287oZro 材料磁性能的影响。结果表明：口一Fe软磁性相，京的存在对制粉、取向及醅s 都有 但很 HDDR 面变得光滑，增加磁性能；Zr元素稳定了主稻，棉制了主稻静竣亿分解，成 为脱氨重组过程中择优形核长大的记忆点，导致重组晶粒取向排列一致，从而 增强磁性能；合金元索Ga的添加使得Nd。Fe。．B和富Nd相在氢气中稳定性瑙强， 同时起到了使Nd。Fe。。B晶粒尺寸细小、均匀的作用。当Ga含羹这翻0．5％时， 其晶粒细化，磁性能最强。)r x·8 基相化合物氯化、歧化、脱氟及再化合的邋程，在低温吸氮发生氢化，在中滠 吸氢发生歧化行为，实验最佳歧化温魔控制在770℃～800℃之间。瑚处淫融 间影响主相及富Nd相吸氢，歧化反应状况，最佳HD处瑷时间控制在2．5～3．5h 之间。脱氢和再化台过程把原来糖大Nd。阢。。B晶粒(100pm)转变成细小酶 u Nd。Fe，。B晶粒(0。3m)，再化合温度控制在760℃～820℃之间，磁性能明显增 强。控制脱簸时间使相变时间缩短，从而促使再亿合过程易于形成徽晶。涨 处理时间与脱氢速度及时问紧密相关，最佳DR处理时间为1．5h。XRD物相分 析表明，材料获得高矫顽力机制是畴壁钉扎和单畴两种作用结莱。 查j驷!兰堡主堡苎： 垫矍 、＼研究温度、时间、真空度、冷却速度等对HDDR磁粉磁性能的影响，结果 表明≮在高真空下脱氢能使Nd。Fe．。B组合完全，可获得较高的磁性能；较快的 冷却速度(水冷)有利于合金获得好的磁性能；粒度为200um时磁粉的综合 磁性能最好：合金最佳HDDR处理工艺如表所示。 最佳HDDR工艺 合金 未均匀化 均匀化 1拌 790℃×3h+780℃×1．5h800℃×3h+800℃×1．5h 2撑 780℃×2．5h+790℃×1．5h800℃×3h+820℃x1．5h 3# 1．5h 790℃×3．5h+820℃×1．5h 770℃×3h+810℃x 4拌 800℃x3h+820℃×1．5h 780℃×3h+790℃×1．5h 5拌 79012×3h+770℃x1．5h 800℃×3．5h+800℃x1．5h 6拌 78012×3h+760℃x1．5h 790℃×3h+800℃×1