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第三章 AES 一、概述 二、ICP-AES结构流程 三、ICP -AES原理 四、ICP-AES的特点 五、等离子体发射光谱仪 一、概述 等离子体光源的分类 ICP-AES vs ICP-OES OES是Optical Emission Spectrometer, AES是Atomic Emission Spectroscopy。 两者都是指电感耦合等离子体原子发射光谱,是一样的。 因为俄歇电子能谱的缩写也是AES,所以后来ICP-AES通常都被叫做ICP-OES。 二、 ICP-AES的结构流程 ICP-AES 三、 ICP-AES的原理 2. 炬管与雾化器 3. 原理 ICP火焰 ICP形成原理 四、 ICP-AES 特点 五、 等离子体发射光谱仪 凹面光栅与罗兰圆 特点 : 2. 全谱直读等离子体光谱仪 对比 仪器特点: 第三章 AES 一、光谱定性分析 二、光谱定量分析 一、 光谱定性分析 二、 光谱定量分析 作业 P92 4,7,10 c.标准加入法 无合适内标物时,采用该法。 取若干份体积相同的试液(cX),依次按比例加入不同量的待测物的标准溶液(cO),浓度依次为: cX , cX +cO , cX +2cO , cX +3cO , cX +4 cO …… 在相同条件下测定:RX,R1,R2,R3,R4……。 以R对浓度c做图得一直线,图中cX点即待测溶液浓度。 R=Acb b=1时,R=A(cx+ci ) (4) 干扰与背景的扣除 a. 光谱干扰 AES最重要的光谱干扰是背景干扰。 来源:分子辐射,连续辐射,谱线扩散,电子与离子的复合,杂散光。 校准背景的方法:校准法(分析线两侧强度近似为背景) 等效浓度法(校准曲线)。 b. 非光谱干扰(又称基体效应) 试样激发过程影响谱线强度,组分vs弧焰温度。 抑制:加入光谱缓冲剂或光谱载体。 * * 第三节 等离子体发射光谱仪 plasma emission spectrometry 原子发射光谱在50年代发展缓慢; 1960年,工程热物理学家 Reed ,设计了环形放电感耦等离子体炬,指出可用于原子发射光谱分析中的激发光源; 光谱学家法塞尔和格伦菲尔德用于发射光谱分析,建立了电感耦合等离子体光谱仪(ICP-AES); 70年代获ICP-AES应用广泛。 (1)直流等离子体喷焰(direct currut plasmajet,DCP) 弧焰温度高 8000-10000K,稳定性好,精密度接近ICP,装置简单,运行成本低; (2)电感耦合等离子体(inductively coupled plasma, ICP) ICP的性能优越,已成为最主要的应用方式 ; (3) 微波感生等离子体(microwave induced plasma, MIP) 温度5000-6000K,激发能量高,可激发许多很难激发的非金属元素:C、N、F、Br、Cl、C、H、O 等,可用于有机物成分分析,测定金属元素的灵敏度不如DCP和ICP。 采用ICP作为光源是ICP-AES与其他光谱仪的主要不同之处。 主要部分: 1. 高频发生器 自激式高频发生器,用于中、低档仪器; 晶体控制高频发生器,输出功率和频率稳定性高,可利用同轴电缆远距离传送。 2. 等离子体炬管 三层同心石英玻璃管 3. 试样雾化器 4. 光谱系统 动画 ICP是由高频发生器和等离子体炬管组成。 1. 晶体控制高频发生器 石英晶体作为振源(压电效应),经电压和功率放大,产生具有一定频率和功率的高频信号,用来产生和维持等离子体放电。 三层同心石英玻璃炬管置于高频感应线圈中,等离子体工作气体从管内通过,试样在雾化器中雾化后,由中心管进入火焰; 外层Ar从切线方向进入,保护石英管不被烧熔,中层Ar用来点燃等离子体; 当高频发生器接通电源后,高频电流I通过感应线圈产生交变磁场(绿色)。 开始时,管内为Ar气,不导电,需要用高压电火花触发,使气体电离后,在高频交流电场的作用下,带电粒子高速运动,碰撞,形成“雪崩”式放电,产生等离子体气流。在垂直于磁场方向将产生感应电流(涡电流,粉色),其电阻很小,电流很大(数百安),产生高温。又将气体加热、电离,在
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