《磁控溅射制备择优取向氮化铝薄膜》.pdf

第 卷 第 期 应用化学 !7 ’ C\+1!7,\1’ 年 月 # V QK,^E^_/‘P,*a/L*BBa^D QK^OE2Pb *Rc1# 磁控溅射制备择优取向氮化铝薄膜 !# $! ! # 许小红 武海顺 张聪杰 金志浩 ! 山西师范大学化学系 临汾 # 西安交通大学材料学院 西安 % ’!’( ) 关键词 薄膜 制备 磁控反应溅射 晶面取向 射线衍射 *+, - 分类号. 0!!1’( ’4 / 23 六方纤锌矿结构 薄膜具有一系列优异的物理化学性质 使之在力学 光学 声学和电 *+, 8 8 子学上具有广泛的应用前景 由于 具有高的机电偶合系数和高的声传播速度 可以用来 1 *+, 9!: 9#: 做表面波装置 它的电阻率高 热导率高 可以在半导体器件中用做绝缘膜和散热膜 它的 ( ( 高硬度和良好的光学性能 可以用做磁光盘和有机光导的保护层材料94: 薄膜可以用许 1 *+, 多方法制备 如 化学气相沉积 分子束外延 反应蒸发 反应溅射以及离子束辅助溅射等9#;: . 不同晶面取向的 薄膜其理化性质和用途不同 以 面择优取向的 薄膜更能满足 *+, 1 %!) *+, 9!: 9’: 表声波装置的要求 1 等 认为采用磁控反应溅射以及离子束溅射等 方法较难 =?@A@ BCD 制备以 面取向的 薄膜 本文采用直流磁控反应溅射的方法 在 片上成功地 %!) 1 %!!!) *+, E? 制备了 面择优取向的 薄膜 用 射线衍射的方法研究了实验参数对薄膜晶面取向 %!) *+, 1 - 的影响 结果表明 工作气体