现代分析技术原子发射光谱法解读.pptVIP

易挥发而难激发的元素 难挥发、难原子化的元素 易电离、易激发的元素 观测高度较高 W 和Mo Li、Na、K 加热路程长 温度低 Zn 和 P 观测高度较低 4. 加热室温度的选择 带去溶剂装置的进样系统 过高，管道中干雾粒丢失率增大，谱线强度降低。 过低，脱溶剂不彻底，等离子体温度降低，背景增大，线背比小。 180～210℃ 二、ICP-AES 基体效应及其消除 基体效应 等离子体 进样系统 （1）易电离元素基体效应 等离子体 进样系统 导致分析元素发射空间分布的移动、电离平衡的移动、横向扩散、促进电子碰撞等，从而影响等离子体激发温度、热导系能、电子数密度等。 影响雾化器、雾化室内气溶胶的形成、物理性质和传输情况的变化。 （2）无机酸基体效应 酸浓度的变化影响等离子体原子化、激发电位、电子密度、电离条件的变化，高浓度的酸将降低等离子体的能量传递效率。 ① 影响溶液物理性质的变化，从而影响溶液的提升率（如，硫酸和磷酸）； 等离子体 进样系统 ② 改变气溶胶雾粒的大小分布。硝酸、高氯酸使雾粒更小，降低气溶胶的传输效率；硫酸、磷酸使气溶胶雾粒增大，抑制分析信号。 （3）有机溶剂基体效应 等离子体 进样系统 少量的有机溶剂可改善气溶胶的性质，提高雾化效率； 过量会导致气溶胶传输效率的降低，影响检出限。 浓度较低，热分解产生大量的氢，提高等离子体的热导性能，增加电子密度，提高ICP的激发温度，分析信号有增强。 浓度较高，一般具有较高的挥发性，蒸气在中心通道吸收射频电流发射的能量，降低激发温度，甚至导致ICP熄火。 H电离电位较Ar 低 对高激发能的谱线影响较严重 1. ICP的非光谱干扰及其消除 由雾化、去溶装置、溶质挥发、原子化和电离干扰引起。 （1）雾化、去溶干扰效应 主要与装置、溶液条件及工作条件有关，与ICP 的特性及激发过程无关。 无机酸 有机酸 溶液的表面张力变小，雾滴更细，谱线强度增强； 易使炬焰熄灭以及在炬管口出现碳沉积。 浓度增大，溶液黏度增大，喷雾效率降低，待测元素的谱线强度减弱。 去溶干扰效应 Zn 　　加热室温度140℃，4mg/mL KCl ，Fe、Zn、Cd三种元素存在去溶干扰效应，三种元素进入ICP 的效率发生变化。 Zn 以单一元素的气溶胶进入加热室和去溶装置，沉积在器壁上的百分率很大。。 加入KCl ，Zn 沉积在器壁上 的损失减小， 进入 ICP 的量相对增加，Zn 213.8nm 谱线强度增加。 （2）溶质挥发、原子化、电离干扰 　　ICP光源的溶质挥发、原子化、电离干扰效应较小，只是在基体浓度相当高时才出现。 ICP光源能辐射出更多较强的离子线， 存在较小的电离干扰。 　此类干扰与稳定化合物的形成有关。如，Al/Ca 摩尔比较高，氧化铝将钙包围，使钙的原子线（Ca Ⅰ422.7nm）和离子线（Ca Ⅱ 393.4nm）的发射受到抑制。 　ICP 中温度比较高和气溶胶微粒滞留时间较长，溶质挥发干扰很小甚至可以忽略不计。 2. ICP的光谱干扰及其消除 ICP-AES 分析中最重要的干扰是光谱干扰。 （1）光谱干扰的来源 背景干扰 谱线重叠干扰 光源的连续光谱、水分子的OH 带光谱、氮和有机物的NO、NH、CN、C、CO带光谱等。 过渡元素（Fe）光谱复杂，可能有谱线重叠干扰。 特殊样品中大量基体可能有谱线重叠干扰。 铂作为基体大量存在，对267.16nm 处的铬线。 （2）常规背景校正法 空白背景校正法（在峰法） 将所有的干扰都作为“空白值”予以扣除。 通常需对样品和空白的基本组成进行匹配。 根据分析线附近的背景分布，推算分析线中心波长处的背景值。 动态背景校正法（离峰法） 背景分布平坦或随波长线性变化。 无需事先清楚样品的组成。 样品和空白的背景（含）干扰线的形状和大小均保持不变。 溶液很稀或组成恒定的高纯物溶液。 （3）化学计量学方法 干扰系数法 干扰程度过大时，可能造成较大的误差。 　　多元线性回归法、广义标准加入法、因子分析法、矩阵投影法、卡尔曼滤波法、Fourier 变换法、小波变换法和分辨技术和人工智能法等。 干扰元素浓度与其干扰程度的相关关系，测定含有不同浓度的干扰元素的标准溶液，求出干扰系数，校正。 二、植物灰分组成测定 3.6 原子发射光谱法的应用 四、元素形态的分析 三、土壤常量和微量组分的分析 一、生物、食品、环境样品的分析 五、应用实例 HPLC与ICP-AES联用，测定水中 Fe3+ 和 Fe2+。 感光板摄谱、显影、定影，映谱仪放大，与标准谱线比较或通过比长计测定波长，进行定性分析。 摄谱检测系统 感