三氯化铁除砷和镉的机理.pdfVIP

第65 卷 第10 期 化 工 学 报 Vol.65 No.10 October 2014 2014 年10 月 CIESC Journal ·4118 · 三氯化铁除砷和镉的机理 郭莉，赵燕鹏，杜冬云 （中南民族大学化学与材料科学学院，催化材料科学国家民委-教育部共建重点实验室，湖北 武汉 430074 ） 摘要：采用电荷分布多位络合模型模拟（CD-MUSIC ）、XPS 、FTIR 和Zeta 电位分析的方法研究了三氯化铁去除 As (Ⅴ) 、Cd (Ⅱ) 的机理。结果表明：在pH 3～7 范围内，砷、镉通过竞争铁氧化物表面的有效作用位点而相互抑 制；而在pH 7～10 范围内，Cd( Ⅱ)主要以Cd(OH)2 沉淀的方式得以去除，并通过共沉淀作用促进砷的去除。根据 CD-MUSIC 模拟结果，As( Ⅴ)主要形成单齿单核质子化（ FeOAsO H1.5−、FeOAsO(H O) 0.5−）的表面配合物， 3 2 2 结合常数分别为63.04、66.50；而 Cd( Ⅱ)则以 FeOHCd1.5+形态结合在铁氧化物的表面，结合常数为31.05，其含 量随着pH 的升高逐渐减少。 关键词：三氯化铁；砷、镉去除机理；电荷分布多位络合模型 DOI ：10.3969/j.issn.0438-1157.2014.10.048 中图分类号：X 781 文献标志码：A 文章编号：0438—1157 （2014 ）10—4118—05 Mechanism of removing arsenic and cadmium with ferric chloride GUO Li, ZHAO Yanpeng, DU Dongyun (School of Chemistry and Material Science, Key Laboratory of Catalysis and Materials Science of the State Ethnic Affairs Commission Ministry of Education, South Central University for Nationalities, Wuhan 430074, Hubei, China) Abstract: The mechanism of arsenic and cadmium removal with ferric chloride was studied by analysis of residue samples with CD-MUSIC, XPS, FTIR and Zeta potential. There was interference between As and Cd by competing the active site on iron oxide in the range of pH at 3—7. Nevertheless, in the range of pH at 7— 10, Cd( Ⅱ) was mainly removed by precipitation as Cd(OH) , which coul