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显影台技术方案
显影清洗台制作方案
一、总述:
序号 名称及规格 数量 单位 备注 一 整机部分 1 整机
一、整机材料:10mm厚优质pp板,约2000(长)X1400mm(宽)X2000mm(高)。
二、设备主体分4个工作区:(1)工艺槽工作区。(2)排风区。(3)水电气控制区。(4)阀箱区。
三、排风系统:(1)设备后部多个条状孔排风孔,手动调节挡风板可调节排风量。(2)台面板开有多个ф8mm孔,用于底部排风与水清洗工作台面的排液。(3)设备主排风有一个ф200mm排风管。(4)排风量: 1500m3/h=3000 m3/h。KW,
AC220V;排水口径φ60,上水口径φ25,2.5Kg/Cm2,气体接口3/8〞5Kg/Cm2。 2 控制系统
操作面板位于设备前上部,人机界面、控制按钮及主要显示仪表设置其上。
2、电气系统采用日本OMRON公司PLC实现控制功能。用户可根据需要,通过触摸屏对整机工艺实现设置和控制。设备的控制系统可随时提供设备的工作状态显示,并具备历史记 1 套 二 槽体部分 1 化学槽
见详细描述 2 套 适用4英寸1篮25片 2 QDR清洗槽
见详细描述 4 套 去离子水
适用2英寸2篮,每篮25片或4英寸1篮25片 三 辅助系统 1 水枪
美国进口,枪体材质为铁氟龙 2 只 接去离子水 2 氮气枪
美国进口,枪体材质为铁氟龙 2 只 高纯氮气
二、详细描述:
台面由8个功能槽组成,1#~4#槽为不锈钢常温槽(后面带搅拌机构),5#~8#槽为QDR冲洗槽。
1、1#-4#不锈钢常温槽(带搅拌机构)
槽体描述:不锈钢常温槽的结构如下图所示,主要由不锈钢槽、托板、排放口、管路和管件等组成。
不锈钢常温槽结构及示意图
槽体材质:SUS316L。
内槽有效尺寸:长×宽×高 = 250 L(mm)×250 W(mm)×250 H(mm)。
化学液:显影液。
液体温控: 常温。
抖动装置:槽体后面带片盒搅拌机构,伸到槽体材质:PTFE材料。抖动装置均由调速电机驱动,抖动频率10-60次/min连续可调,振幅为30mm,搅动装置结构示意图见下图。
抖动装置结构示意图
人工加药。
电磁阀排药。
配槽盖(SUS316L)。
2、5#-8#QDR槽
QDR快排冲洗槽的结构如下图所示,主要由喷淋槽、溢流槽、匀流板、快排汽缸体、喷嘴喷管、管路和管件等组成。基本流程 : 放入工件→开始喷淋,同时快排阀打开→底部注水,同时快排阀关闭,氮气鼓泡打开→溢流漂洗+氮气鼓泡→快排阀打开,快速排放,一次冲洗快排工艺结束。在QDR 槽体溢流部设水阻计,时时监控水质。各功能的运行时间及次数可编程控制。
槽体描述:槽体由进口NPP板材焊接加工而成。QDR槽由安装在槽体底部的快排汽缸、
底部DI水注入孔及顶部左右两侧的DI水喷嘴实现槽体的快速注入与排放,有氮气鼓泡功能。QDR槽用来实现刻蚀后残留在片子上的化学液及污染颗粒的冲洗去除,具有喷淋、溢流、氮气鼓泡等功能,各功能的运行时间及次数可编程控制。
槽体内口有效尺寸:长×宽×高 = 200(mm)×200(mm)×200(mm)。
注入时间:≤60秒(DI水压力为2~3Kg)。
排放时间:≤6秒。
在溢流排放口安装有DIW电阻率检测仪,可队冲洗溢流的水质适时检控;电阻率检测
仪型号为:台湾SUNTEX生产的EC430。
槽体内安装带网眼的匀流板一个,用来承载花篮以及均匀流场。
槽盖:采用透明PVC槽盖,槽盖可以竖直悬挂在槽的旁边。
匀流板
溢流槽
喷淋槽
N2
DI
QDR快排冲洗槽结构及示意图
氮气鼓泡控制
喷淋、溢流控制
快排汽缸
DIW喷淋
溢流快排两用结构
电阻率检测
溢流排放
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