大气压等离子体辅助多晶硅薄膜化学气相沉积参数诊断.pdfVIP

大气压等离子体辅助多晶硅薄膜化学气相沉积参数诊断.pdf

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
大气压等离子体辅助多晶硅薄膜化学气相沉积参数诊断.pdf

59 4 2010 4 第 卷第 期 年 月 物 理 学 报 Vol. 59 ,No. 4 ,April ,2010 1000-3290 / 2010 / 59 (04)/2653-08 ACTA PHYSICA SINICA 2010 Chin. Phys. Soc. 大气压等离子体辅助多晶硅薄膜 化学气相沉积参数诊断* 刘莉莹 张家良 郭卿超 王德真 ( , 116023) 大连理工大学物理与光电工程学院 大连 (2009 6 13 ;2009 8 25 ) 年 月 日收到 年 月 日收到修改稿 Ar 、SiCl H (Ar / SiCl / H ) 本文采用发射光谱法诊断了大气压下 气 及 气混合气体 射频放电等离子体射流特 4 2 4 2 . Si Si , 性 利用 原子谱线强度计算了电子激发温度并以此估算了 原子数密度 研究了射频功率及气体流量对电子激 Si SiCl . 发温度和 原子数密度以及 4 解离率的作用 : , , , 关键词 大气压等离子体射流 发射光谱 电子激发温度 多晶硅薄膜沉积 PACC :5270K 放电等离子体射流增强化学气相沉积多晶硅薄膜 . ,Si 1. 引 言 的工艺研究 在沉积过程中 原子的数密度和能 量对薄膜的结构具有决定性影响,因此本文利用发 、 提高太阳能电池的转换效率 降低生产成本一 Si 射光谱方法分析 原子的数密度和电子激发温度 直是太阳能电池板工艺研究的目标. 从单晶硅太阳 , 对放电参数的依赖关系 目的是寻找最佳的沉积 、 能电池到如今大规模应用的非晶硅 多晶硅及薄膜 参数. , 太阳能电池 工艺的每一次技术进步都是追求上述 . 多晶硅薄膜太阳能电池因其硅耗量 目标的结果 2. 实 验 , , 小 又无非晶硅薄膜电池的效率衰减问题 并且可 , 能在廉价基材上制备 其成本预期远低于单晶硅电

文档评论(0)

dmz158 + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档