薄膜光学技术-3-1资料.pptVIP

课堂论题十一 1、薄膜光学原理解决的问题 ①有膜光学零件表面光谱反射率、透射率的计算方法 ②常见光学薄膜惯用膜系结构 ③规则膜系光谱反射、透射特性及其计算方法 2、必须掌握的概念和方法 ①单层薄膜光谱反射、透射特性及其计算方法 ②规则膜系(LH)m光谱反射、透射特性及其计算方法 ③减反射膜系设计的基本思想方法 ④光学薄膜的偏振效应特性计算方法 ⑤薄膜光谱反射、透射特性与膜系结构参数之间的关系 ⑥所有标注以“说明”、“注意”、“显然”的问题 第三章 薄膜制造技术 薄膜的制备方法 湿法制备薄膜工艺简单，制造成本低，但膜层厚度不能精确控制，膜层强度差，较难获得多层膜，有污染。 干法制备薄膜需要使用真空镀膜机，制造成本高，但膜层厚度可以精确控制，膜层强度好，无污染，已广泛采用。 PVD技术 1. 热蒸发技术 2. 溅射技术 3. 离子镀技术 4. 离子辅助镀技术 3.1 真空及真空镀膜机 “真空”是干法镀膜的基础，是光学镀膜机的基础。 本节将解答下列问题： PVD为什么要在真空中进行？ 真空用哪些参数计量？ PVD所需要的真空条件是如何确定的？ 真空如何获得？ 1、真空基础 1）. 热蒸发工艺过