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二维光子晶体 ( 平光子晶体板－PCF ) 微电子工艺 PCS 制备工艺 Fig. 1: Photonic crystal waveguide in SOI. Pitch is 460nm, hole-size is 290nm. Fig. 2: Photonic crystal hole size after lithography and etch for different triangular lattice designs. 248nm DUV lithography on SOI SOI photonic crystals for 1550nm ：periods ： 400－500nm hole sizes：160－ 300nm. PCS 制备工艺 PBG限制波导 PCS 特性 PCS 特性 PBG限制波导－微腔耦合 PC微腔复用/解复用器 PCS 应用研究进展 PC滤波器 PCS 应用研究进展 共面PC谐振腔 PCS 应用研究进展 1563 nm 1609 nm Lcavity=6?m, Q=400 微腔耦合波导激光器 ( CALTECH ) ( MIT ) PCS 应用研究进展 光子晶体微腔激光器 --HCL:H2O=4:1