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电子显微与X射线分析 第一章 电子光学原理 第二章 透射电镜 第三章 扫描电镜 第四章 电镜制样技术 第五章 电镜的应用 第六章 电镜图象处理 第七章 X射线分析 参考书: 朱-宣 《电子显微镜的原理和使用》 北大出版社 戈尔茨坦 《扫描电子纤维技术与x-ray显微分析》 科 学出版社 王世中 《电子显微术基础》 北京航空学院出版社 徐萃章 《电子探针分析原理》 科学出版社 周志朝 等 《无机材料显微结构分析》 浙江大学出版社 导言 1986年度诺贝尔物理学奖 透射电镜 E.Ruska 扫描隧道电镜 G.Binning,H.Rohner 1μm 到1~2?(光学显微镜2000 ?) 高压EM、分析EM、扫描透射EM、低温EM、环境扫描等成系列的综合性分析仪器 OM——光子 EM——电子 分辨率 扫描电子显微镜SEM 分辨率是能区分最小细节的能力 定义:Qi的圆盘中心落在Pi圆盘的圆周上时,圆两点间的距离Δφ为像方可以分辨的最小距离。 Δφ=0.61λ/ niθi*M ≈λ/2* M λi:像空间的波长,ni:像空间的折射率 λ:真空中的波长, 物方σ=Δφ/M=λ/2 导言 1924年De .Broglie(德布罗意):微观粒子波粒二象性的规律 电磁波的频率υ、波长λ、能量E、动量P E=hυ P=h/λ E=eV=1/2*mv2=P2/2m V:电子速度,m:电子质量,V:加速电压 P=(2meV)1/2,λ=h/(2meV)1/2 电子光学透镜 Gabor:短焦距的有会聚能力的线圈 Busch:电磁线圈——电子的透镜——折射电 子——几何电子光学理论 Ruska:电子显微镜设想,在1931年4月7日 17倍的钼金网格放大像 第一章 电子光学原理 电子改变其运动方向的最简单方法是通过电场或磁场 电子光学:静电透镜和磁透镜 一、 电子在静电场中的运动: 电场中的电荷会受到电场施加的作用力,即电场力 电荷在电场中运动,电场力作功 通常把电势作用在单位正电荷上的电场力定义为电场强度,表达式为: E=f/q E:电场强度(简称为场强或E矢量) f:电场施加给试验电荷的作用力,q:试验电荷 匀强电场特点: 1. 等电位面与电极的表面平行; 2. 等电位面与电场强度方向垂直 3. 匀强电场中任一点的电场强度相等 ut1=ut2 Sinθ/Sinγ=(ut1/u1)/(ut2/u2) (1) 1/2 mu12=eV1 1/2mu22=eV2 (2) 则 Sinθ/Sinγ=(V2/V1)-1/2 λ∝1/[(v) -1/2] Sinθ/Sinγ=(V2/V1)-1/2=λ1/λ2 这与光子在两介质界面的折射率公式Sinθ/Sinγ=n2/n1类同, 说明电场中等位面是对电子折射率相同的表面。 等电位曲面簇能使电子被聚焦成像, 二、 电磁透镜 1. 电子在磁场中运动与磁透镜 电荷在磁场中运动时将受到磁场的作用力,即洛仑兹力的作用 f=qu×B=-eu×Bq ─运动电荷 u ─电荷运动速度 B ─电荷所在位置的磁感应强度 当u∥B f=0 当u⊥B f=最大 且f向心=f=euB=mu2/R R=mu/eB=P/eB 电子在轴对称磁场作用下的行为与光学透镜一样,也服从几何光学定律,其成像公式与光学成像公式一样,即: 1/a + 1/b =1/f a为物距(物到镜中心的距离) b为像距(像到镜中心的距离) f为透镜的焦距 M=a/b=b/f-1 磁透镜就由三部分组成: 1.线圈: 通电产生磁场 2.铁壳外罩:防止外部磁场的干扰,并增加透镜的聚焦能力 3.极靴:透镜中央的锥状体,经过高精度加的合金块,具有高的导磁率,将磁场集中在极靴中心区很小的范围内,进一步提高会聚能力。
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