04金相试样的制备讲解.ppt

金相试样的制备 金相试样的制备 要想观察到真实的、清晰的显微组织，必须要制备好金相样品 基本步骤： 取样→镶嵌→预磨→抛光→浸蚀 制备好的试样： 组织有代表性 无假象，组织真实 夹杂物、石墨等不脱落 无磨痕、麻点或水迹等 金相试样的制备 Jose Ramon Vilella （1897-1971） 首先指出若试样制备不当，试样表面将出现变形层，导致出现假象 制样不当——热影响 制样不当——水渍 制样不当——假像 制样不当——边缘不平整 制样不当——划痕 制样不当——拽尾 取样 原则 a. 试样的截取部位要有具有代表性，能够表征整个零件的整体质量情况 b.取样过程中应保证被观察的截面不产生组织变化 方法 锯、车、刨 、锤击、砂轮切片切割、线切割机 、气割等 试样尺寸 以便于握持、易于磨制为准，一般为直径Ф12—15×15mm的圆柱体，或高度（或边长）15×15×15mm的正方体。对形状特殊或尺寸细小的试样，应进行镶嵌或机械夹持。 镶嵌 原则 保证被观察的截面不产生组织变化 方法 低熔点合金镶嵌、 电木粉或塑料镶嵌和 机械夹持等 目前一般是采用 塑料镶嵌，如胶木粉、 聚氯乙烯及环氧树脂 加固化剂等 预磨 预磨是为了得到平整的磨面，为抛光作准备。一般分为粗磨和细磨两个步骤。 预磨——粗磨 目的 整平试样，并磨成合适的外形。 方法 一般在砂轮机上进行。对很软的材料，可用锉刀锉平。 注意事项 需冷却试样，防止受热而引起组织变化。粗磨后需将试样和双手清洗干净，以防将粗砂粒带到细磨用的砂纸上，造成难以消除的深磨痕。若用砂轮机进行粗磨，注意接触压力不可过大，若压力过大，可能使砂轮碎裂造成人身和设备事故，同时极易使磨面温度升高引起组织变化，并且使磨痕加深，金属扰乱层增厚，给细磨抛光带来困难。 预磨——细磨 目的 消除粗磨时留下的较深的磨痕，为抛光做准备。 方法 a.手工磨光 b.机械磨光 要点 a.磨制时要不断加水冷却 ，以避免发生组织变化。 b.每换一道砂纸，必须用水将试样冲洗干净，并将磨制方向调换90°。 抛光 目的 除去细磨后留下的细微磨痕，使试样表面成为光滑无痕的镜面。 方法 a.机械抛光——最常用 b.电解抛光 c.化学抛光 机械抛光 利用抛光微粉的磨削、滚压作用，把金相试样表面抛成光滑的磨面。 一般分为粗抛和精抛 抛光——常用抛光粉的种类、性能及用途 浸蚀 除某些非金属夹杂物、铸铁中的石墨相、粉末冶金材料中的孔隙等特殊组织外，经抛光后的试样磨面，必须用浸蚀剂进行“浸蚀”，以获得（或加强）图象衬度后才能在显微镜下进行观察。 最常用的浸蚀方法是化学浸蚀法 浸蚀——化学浸蚀法 纯金属或单相金属的浸蚀是一个化学溶解过程。晶界处由于原子排列混乱，能量较高，所以易受浸蚀而呈现凹沟。各个晶粒由于原子排列位向不同，受浸蚀程度也不同。因此，在垂直光线照射下，各部位反射进入物镜的光线不同，从而显示出晶界及明暗不同的晶粒。 两相或两相以上合金的浸蚀则是一个电化学腐蚀过程。由于各相的组织成分不同，其电极电位亦不同，当表面覆盖一层具有电解质作用的浸蚀剂时，两相之间就形成许多“微电池”。具有负电位的阳极相被迅速溶解而凹下；具有正电位的阴极相则保持原来的光滑平面。试样表面的这种微观凹凸不平对光线的反射程度不同，在显微镜下就能观察到各种不同的组织及组成相。 浸蚀——常用浸蚀剂 * * * *