光纤及相关测试仪表漫谈课件.pptVIP

预制棒主要材料是（透明液体）：高纯度的液态卤化物化学试剂，如四氯化硅（SiCl4）, 四氯化锗（GeCl4），三氯氧磷（POCl3）, 三氯化硼（BCl3）, 三氯化铝（AlCl3）,溴化硼（BBr3），气态的六氟化硫（SF6）,四氟化二碳(C2F4)等。 常温下呈无色的透明液体，有刺鼻气味，易水解，在潮湿空气中强烈发烟 原材料制作： 工业硅在高温下氯化制得粗SiCl4，化学反应如下：Si+2Cl2=SiCl4 原料提纯：由于原料纯度应达到99.9999％。大部分卤化物材料都达不到如此高的纯度，必须对原料进行提纯处理。卤化物试剂成熟的提纯技术，如精馏法，吸附法，水解法，萃取法和络合法等。 广泛采用的是“精馏－吸附－精馏”混合提纯法 辅助材料提纯：掺杂剂和有助反应的辅助试剂或气体也需要提纯 沉积包层时，需掺入少量的低折射率的掺杂剂。如B2O3，F，SiF4等； 沉积芯层时，需要掺杂少量的高折射率的掺杂剂，如GeO2、P2O5、TiO2、等载气使用的辅助气体－--纯Ar或O2；除气泡用的除泡剂－--氦气He 脱水作用的干燥剂－SOCl2或Cl 光纤制造工艺（原材料制作和提纯） 光纤预制棒是控制光纤的原始棒体材料，结构为多层圆柱体，它的内层为高折射率的纤芯层，外层为低折射率的包层，应具有符合要求的折射率分布型式和几何尺寸 尺寸要求： －直径：φ60mm，φ80mm，φ150mm －长度： 1m～2m 制棒方法： －玻璃分相法 －溶胶－凝胶法 －气相沉积法 折射率要求： －高纯度； －准确的折射率分布 光纤制造工艺（沉积和制棒） 预制棒制造工艺（沉积法） 工作原理:首先将经提纯的液态SiCl4和起掺杂作用的液态卤化物，并在一定条件下进行化学反应而生成掺杂的高纯石英玻璃。由于该方法选用的原料纯度极高，加之气相沉积工艺中选用高纯度的氧气作为载气，将汽化后的卤化物气体带入反应区，从而可进一步提纯反应物的纯度，达到严格控制过渡金属离子和OH-羟基的目的 气 相 沉 积 法 管外法 管内法 管外汽相沉积法（OVD）康宁技术 汽相轴向沉积法（VAD）日本技术 改进的管内化学气相沉积法（MCVD） 全世界都有，最普遍的方法 等离子体管内化学气相 沉积法（PCVD）飞利浦卖给长飞专利 光纤制造工艺（沉积和制棒） 四种预制棒沉积工艺在全球的大体市场份额 中国光纤制造利润其实很低的，大多利润都让国外技术赚走了 因为大部分母棒都是进口，母棒占光纤利润的70% 光纤制造工艺（沉积） 管外汽相沉积法（OVD） 优点：沉积速率高、预制棒体积大、原料纯度要求 较低、生产率高 不足：折射率剖面粗糙、原料利用率低 结论：擅长制造包层 光纤制造工艺（沉积） 汽相轴向沉积法（VAD） 优点：沉积速率高、预制棒体积大、原料纯度要求 较低、生产率高 不足：折射率剖面粗糙、原料利用率低 结论：擅长制造包层 光纤制造工艺（沉积） 改进的管内化学气相沉积法（MCVD） 优点：投资少、操作运行较容易、工艺控制性好 不足：原料利用率低、折射率剖面不够精确 结论：擅长制造包层、纤芯制造仅次于PCVD 光纤制造工艺（沉积） 等离子体管内化学气相沉积法（PCVD） 优点：沉积层薄、工艺控制性强、折射率剖面精确 原材料利用率高 不足：原料要求纯度高、沉积速率低 结论：擅长制造纤芯 光纤制造工艺（沉积） 熔缩（制棒）设备 经PCVD沉积好的管子在熔缩车床上熔缩成一实心预制棒（即母棒）。 光纤制造工艺（制棒） 芯棒测试 套 棒 熔缩好的芯棒经设备测试确定芯棒质量 光纤制造工艺（测试和套棒） 张力 测量轮 导向轮 卡盘 预制棒 加热炉 退火管 纤径测量仪 冷却管 辅助牵引轮 一次涂覆 UV固化灯 纤径测量仪 冷却管 二次涂覆 UV固化灯 同心度监控仪 纤径测量仪 牵引轮 收线轮 光纤制造工艺（拉丝和涂覆） 拉丝塔简介： 几层楼高，工艺复杂，环境要求高 拉丝和涂覆过程介绍： 光纤制造工艺（拉丝和涂覆） 为保证成品光纤有足够的强度，剪接一段光纤在筛选机上被施以一定的张力进行强度筛选。 筛选 光纤制造工艺（筛选） 经过强度试验后，合格光纤将进行传输性能和几何性能的测试。 测试与包装 光纤制造工艺（性能测试与入库） 筛选张力： 宏弯附加损耗： 动态疲劳参数： 涂覆层剥离力： 光纤机械特性技术指标 性能参数 G.652A G.652B G.652C G.652D G.657A G.657B G.657C OM3/OM4 OM3/OM4抗弯曲 弯曲半径/mm 30 15 10 15 10 7.5 5 100 15 7.5 弯曲圈数 100 10 1 10 1 1 1 30 20 20 1550nm最大损耗值/d