激光辅助CVD技术的原理及其制备先进的研究进展概论.pptVIP

*/22 激光辅助CVD技术的原理及其制备先进材料的研究进展 姓名：XXX 学号：2013XXXXX5 专业：材料学 */22 技术难题与前景展望 4. 研究进展 3. 基本原理 2. 引言 1. 主要内容 */22 引言 传统化学气相沉积(CVD) 激光辅助化学气相沉积(LCVD) 沉积温度高 难以实现选区定域沉积 */22 LCVD B E C D A 可用作成膜的材料范围广 局部选区精细定域沉积 膜层纯度高,夹杂少 不需掩膜沉积 沉积温度低 引言 */22 基本原理 光热联合LCVD 光解LCVD 热解LCVD LCVD */22 热解LCVD设备 由反应室、工作台、抽气系统、供气系统和激光系统等组成 [1] 张魁武. 激光化学气相沉积（连载之一）[J]. 金属热处理, 2007, 32(6): 118-126 图1 热解LCVD装置图[1] */22 热解LCVD原理 在聚焦的激光光束照射下，基体局部表面温度升高，处在基体加热区的反应气体分子受热发生分解，形成自由原子，聚集在基体表面成为薄膜生长的核心。 [2] John F. Ready. LIA hand book of laser materials processing [M]. New York: LIA, 1998 图2 热解LCVD机理示意图[2] */22 光解LCVD设备 激光束在稍高于基体表面平行入射 图3 光解LCVD装置图[2] 光解LCVD所选激光波长应能被反应气体分子高效吸收其能量，从而使反应气在激光辐照下发生高效率分解，实现高速率沉积。 */22 直写式LCVD设备 包括激光器、导光和聚焦系统、运动工作台、供气系统、反应室和计算机控制系统 图4 直写式LCVD设备[2] */22 研究进展 LCVD应用 1 薄膜制备 超细粉末制备 2 碳纳米管制备 3 */22 薄膜制备-碳膜 Sub title LCVD CVD技术，利用光纤刻蚀过程中的热能裂解碳氢气体，最终在纤维表面沉积碳涂层 为提高光纤在复杂恶劣环境中的性能，常在玻璃纤维表面沉积一层碳膜，来有效地密封光纤，防止氢和水渗入纤维内部，进而减少了信号衰减和纤维强度损失 普通CVD沉积区域温度波动大，难沉积高质量的密封层！ */22 薄膜制备-碳膜 Kwok[3]等人使用波长10.6 μm的连续波CO2激光器，在LCVD反应器中沉积了碳膜：基体吸收激光的能量并产生局部的热表面，当碳氢气体流过反应区域时，基体表面附近的反应气体裂解形成一层薄的碳层 。 图5 制备的碳涂层的SEM照片[3] [3] King Hong Kwok, Wilson K.S. Chiu. O pen-air carbon coatings on fused quartz by laser-induced chemical vapor deposition [J]. Carbon, 2003, 41: 673-680. */22 薄膜制备-金刚石膜 金刚石薄膜因其在力学、热学、光学及电学等方面的优异特性, 在高技术和各种工业领域有着十分广阔的应用前景。CVD 法生长的金刚石薄膜的质量较高，成为制备金刚石薄膜的首选方法。 [4] 任德明, 胡孝勇, 刘逢梅, 赵景山, 王楠楠, 马祖光. 激光辅助化学气相沉积金刚石薄膜实验研究 [J]. 1998, 9(6): 446-449. 任德明[4]等人采用LCVD法合成了厚度为15μm的金刚石薄膜。结果表明，以丙酮作为碳源，用308 nm XeCl 准分子激光解离，H2用灯丝预先解离，基片温度在600-1000℃时，可在Si衬底上制备出高质量的金刚石薄膜。 由于激光诱导化学反应的选择性, LCVD法不仅具有低温、低损伤、低淀积气压、堆积速度高、膜均匀等优点, 而且气相反应产物简单, 生长条件易控制, 有利于机理研究。 */22 薄膜制备-电介质膜 Y2O3薄膜 Y2O3薄膜以其高的介电常数和与Si之间良好的相容性被认为是很有潜力的可替代SiO2的介电材料。而且，由于Y2O3化学稳定性好，在腐蚀环境中可以有效地保护半导体硅片。 使用传统CVD工艺制备的Y2O3薄膜沉积速率太低，通常只有每小时几微米。 [5] Takashi Goto, Ryan Banal, Teiichi Kimura. Morphology and preferred orientation of Y2O3 film prepared by high-speed laser CVD [J]. Surface Coatings Technology, 2007, 201: 5776-5781. Goto[5]等人采用LCVD制备了Y2O3薄膜，