场致发射显示器FED讲述.pptVIP

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场致发射显示器FED讲述

* Producer:赵阳 殷宁 场致发射显示器FED 目录 FED概述及分类 基本结构及工作原理 制作工艺及材料选取 优点及技术难点分析 国内外发展趋势 FED FED(Field Emission Display)概述 FED-场致发射显示器是利用场致发射冷阴极发射的电子束轰击荧光粉而发光的显示器。 FED很像阴极射线管CRT , 有阴极电子枪和阳极荧光屏,只不过阴极和荧光屏是两片平板玻璃,相互靠得很近, FED 面板的结构就等于是有多少个像素就具有多少只电子枪(而每个 CRT 则只有一只或三只)。 FED(Field Emission Display)与CRT的相同点: 利用阴极电子经电场加速而轰击荧光材料发光的主动发型显示器件。因此,FED具有与CRT相似的显示品质,如高亮度、高对比度、全彩色、高显示容量及低功耗等性能。 典型场发射显示结构原理 CRT发射显示结构原理 FED与CRT的区别点: CRT采用热阴极,通过加热阴极材料使其表面电子获得克服表面势垒的能量从而发射出来;而FED采用冷阴极,使之在外加电场作用下逸出。 CRT的热阴极为点发射源或线发射源;而FED的冷阴极为面发射源,可以十分方便地实现平板化和矩阵驱动,无论重量还是体积都大大降低。 CRT的加速电场电压通常在13?30kV之间;而采用平板结构的FED一般加速电压小于10kV。 CRT的阴阳极距离至少在1cm以上,大尺寸CRT甚至达到几十厘米;而FED的阴阳极距离小于3mm。 FED分类 按整体结构分类 二极型FED 三极型FED 存在器件发光亮度与驱动电压之间的矛盾 按栅极位置分类 前栅型FED 后栅型FED 平行栅型FED 存在电子束散焦 , 栅控特性差的问题 矩阵寻址困难,图像显示质量差 可用于检测FEA的发射特性 FED分类 按阴极结构分类 Spindt型 (圆锥发射体型) 平面薄膜型 按阴极材料分类 金刚石材料型 CNT型 (碳纳米管型) SED型 (表面传导型) BSD型 (弹道电子放射型) 基本结构及工作原理 基本结构: 由阳极基板与阴极基板构成,阳极基板为红绿蓝三色荧光粉粉条,为了保证色纯度,之间用黑矩阵隔开;阴极基板由可以行列寻址的发射阵列和栅极组成。两基板之间有支撑以抵抗大气压力,基板之间用低熔点玻璃封接 基本原理: 在栅极和阴极之间有一个电压差形成电场,使得微尖产生场致效应释放电子,再经电场加速电子使其轰击荧光粉而发光 场致发射理论 T=0K时,金属场致发射定量方程为: F-N公式 其中为 场致发射电流密度, 为发射表面电场强度, 为金属的逸出功,t(y)和θ(y)为Nordheim椭圆函数,大多数情况下可取t2(y)=1.1, θ(y)≈0.95-y2 对上述F-N公式做如下变换: 对数处理可得: 其中I为发射电流,为发射面积,U为加速电压,β为电场转化因子,与发射形体和极间距离有关,代入电流密度公式得: 其中有: 制作工艺及材料选取 FED制作工艺流程图: 阴极材料的选取 要求:由于FED采用冷阴极,所以应该采用表面功函数较低、电子势能很小甚至为负值的材料 要求: (1)隔离柱很薄,尺寸均匀; (2)具有一定的刚度、强度; (3)具有一定的电阻率,同时又不能产生过大的漏电流; (4)放气量小。 隔离柱材料的选取 为了实现动态显示效果,通常驱动电路采用矩阵寻址方式,而矩阵寻址又分为逐点扫描寻址和逐行扫描寻址。 另外,三极管型FED是通过控制阴极上脉冲宽度(PWM)和数目来逐行、逐帧循环实现灰度显示。由于栅、阴两级之间间距较小,故其驱动电压相对较低。 驱动电路的选取 荧光粉的选取: 由驱动电路知,FED中荧光粉工作于低电压,大电流的情况下。 低压荧光粉存在的问题: 色饱和度低,可见光转换效率低,亮度低,寿命低 荧光粉的选取 FED优点及技术难点分析 平板显示器性能比较 FED在发光效率、 亮度、 视角、 功耗耐严酷的高低温、 对比度好、 响应速度快等方面具有和 LCD 和 PDP相当的优势。 FED 还具有分辨率高、 色再现性好 、 抗振动冲击 , 电磁辐射极微, 易于实现数字化显示等特点。 由表格看出: 难点1 FED中的发射均匀性和稳定性问题 造成微尖发射不均匀性和不稳定性的原因: 由于Spindt型工艺生成的阴极微尖是服从Gaussion分布,因此不可能使各发射体完全一样。 微细加工工艺难以达到大面积的均匀性,如阴极微尖、栅极孔几何尺寸的离散及相对位置的偏差。 发射电流决定于表面电场和阴极表面状态。发射过程中受表面形态变化、离子轰击、气体吸附等多种因素影响,造成发射电流起伏不定。 难点2 支撑技术:FED工作于真空条

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