Croe parametric课件第6章 编辑实体特征.pptx

第6章 编辑实体特征;6.1 基本概念;6.1.2 特征的父子关系;6.2 复制和粘贴;（5）将孔特征的直径改为“25.00”，孔深改为“20.00”，单击“确定”按钮，生成此孔特征，如图所示。;6.3 镜像;3．选项说明;6.4 阵列;6.4.1 尺寸阵列;（3）在操控板中单击“1”后面的文本框，在模型中选取水平尺寸“100”。 （4）单击操控板中的“尺寸”按钮，弹出“尺寸”下滑面板。 （5）单击“尺寸”下滑面板中“方向1”列表框“增量”列的尺寸“10”使之处于可编辑状态，然后将其修改为30。 （6）在操控板中“1”后面的文本框中输入“6”，使矩形阵列特征为6列。 （7）单击控操控板中的“确定”按钮，生成阵列特征，如图6-12所示。也可以添加方向2上的尺寸并修改尺寸和个数。;3．选项说明;6.4.2 方向阵列;（3）单击操控板中“1”后面的文本框，在模型中选取RIGHT基准平面，并给定阵列个数为4、尺寸为50。 （4）单击操控板中“2”后面的文本框，在模型中选取TOP基准平面，并给定阵列个数为3、尺寸为30。此时预览阵列特征如图所示。;3．选项说明;6.4.3 轴阵列;（4）在预览模型中可看到阵列的方向，如果阵列特征反向，将操控板中“2”后面文本框中的阵列尺寸值改为负值即可。 （5）单击操控板中的“确定”按钮，阵列结果如图所示。;3．选项说明;6.4.4 填充阵列;（3）在操控板中依次单击“参考”→“定义”按钮，在弹出的“草绘”对话框中选取“拉伸1”的圆面作为草绘平面。 （4）系统进入草绘环境，绘制如图所示图形。单击“草绘”功能区中的“确定”按钮。;6.4.5 曲线阵列;（3）在操控板中依次单击“参考”→“定义”按钮，在弹出的“草绘”对话框中选取“拉伸1”的圆面作为草绘平面。 （4）系统进入草绘环境，绘制如图所示图形。单击“草绘”功能区中的“确定”按钮退出草绘环境。;3．选项说明;6.4.6 实例——挡板;4．阵列孔;6.5 特征操作;（4）在“复制特征”菜单管理器中选择“镜像”→“选择”→“独立”命令。 （5）选择“完成”命令，弹出“选择特征”菜单和“选择”，在“模型树”选项卡中选择“旋转1”选项，选取平板上的旋转特征，如图所示。;3．选项说明;6.5.2 特征移动;（4）单击“复制”菜单中的“完成”命令，弹出“移动特征”菜单管理器。 （5）在弹出的菜单中依次选择“平移”→“平面”选项，在模型中选取TOP基准平面，然后在菜单中选择“反向”→“平面”选项，将平移方向设置为背离屏幕的方向。 （6）根据系统提示输入偏移距离为80，按Enter键，返回到“移动特征”菜单管理器。 （7）在菜单中选择“完成移动”命令，弹出“组可变尺寸”菜单管理器和“组元素”对话框。;（11）在“特征”菜单管理器中选择“复制”选项。重复步骤（2）～（4）中的操作，在“移动特征”菜单管理器中如图所示，依次选择“旋转”→“坐标系”选项。 （12）在模型中选取系统默认的坐标系“PRT_CSYS_DEF”，然后在弹出的菜单中依次选择“Z轴”→“确定”选项。 （13）根据系统提示输入旋转角度为60°，按Enter键确定。 （14）在“移动特征” 菜单管理器中选择“完成移动”命令。 （15）在弹出的“组可变尺寸”菜单管理器中勾选“Dim2”和“Dim4”复选框，改变模型到RIGHT基准平面的距离及模型宽度。 （16）根据系统提示分别输入“Dim2”和“Dim4”的值为40和60。 （17）单击“组元素”对话框中的“确定”按钮，然后在“特征” 菜单管理器中选择“完成”命令，完成特征的旋转操作，结果如图所示。;6.5.3 重新排序;（4）根据系统提示，在“确认”菜单管理器中选择“确认”命令，此时“拉伸3”特征重新排序到“拉伸2”特征的上面，结果如图所示。;6.5.4 插入特征模式;6.5.5 实例——板簧;6.6 特征编辑;（1）打开文件。在“模型树”选项卡中选择“拉伸3”选项，右击，在弹出的右键快捷菜单中选择“隐含”选项，弹出“隐含”对话框，同时选取的特征在“模型树”选项卡和图形区加亮显示如图所示。;（4）勾选“模型树项目”对话框“显示”选项组中的“隐含的对象”复选框，单击“确定”按钮，隐含对象将在“模型树”选项卡中列出，并带有一个项目符号，表示该特征被隐含，如图所示。;6.6.2 隐藏特征;如果要隐藏某一特征，可右击“模型树”选项卡或绘图区中的某一个或多个特征，在弹出的右键快捷菜单中选择“隐藏”命令即可隐藏该特征。 隐藏某一特征时，Creo将该特征在绘图区删除，但特征仍会显示在“模型树”选项卡中，其图表以灰色显示，表示该项目处于隐藏状态，如图所示。 如果要取消隐藏，可在“模型树”选项卡中选择隐藏的项目，然后右击，在弹出的右键快