华中科技大学光电子企业加速器项目建设立项建设可行性分析研究论证报告报告.docVIP

华中科技大学光电子企业加速器 项目建设可行性研究报告 武汉华工大学科技园发展有限公司 二〇一三年二月 一、项目可研概要 （一）项目概况 项目名称：华中科技大学光电子企业加速器 建设地址：武汉未来科技城（湖北省大学科技园） 建设期限：3年 承担单位：武汉华工大学科技园发展有限公司 建设规模：项目规划用地面积103亩（含代征），一期建设用地50亩，二期预留用地53亩。总建筑面积约为11.8万平方米，其中一期、二期各建设6万平方米以及其他配套设施等。 （二）项目地块概况 华中科技大学光电子企业加速器项目规划用地位于武汉未来科技城高新大道以北、未来一路以东、科技二路以北约103亩用地（含代征）。 （三）项目主要结论 1、项目各项技术指标均符合规划要求。 2、项目工程技术方案按照各项规范和标准严格执行，能保证工程技术??顺利实施。 3、项目施工及运营过程中，会产生轻微废气、废水、噪声及固体废弃物等，从污染物性质和污染物总量分析，均属轻微的污染源，符合国家环保法规要求和污染物排放标准，符合项目所在地环境质量要求。 4、项目税前静态回收期约为10.22年，项目在兼顾投资回报的基础上也满足了高科技企业孵化和加速服务等社会需求。 5、项目的建设符合国家产业政策、地方“十二五”规划要求，也符合《武汉东湖高新技术开发区科技企业孵化器（加速器）建设管理若干规定》的要求，将为东湖高新区、武汉未来科技城提供