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半导体物理学基础知识
1半导体中的电子状态
1.2半导体中电子状态和能带
1.3半导体中电子的运动 有效质量
1半导体中E与K的关系
2半导体中电子的平均速度
3半导体中电子的加速度
1.4半导体的导电机构 空穴
1硅和锗的导带结构
对于硅,由公式 讨论后可得:
= 1 \* ROMAN I.磁感应沿【1 1 1】方向,当改变B(磁感应强度)时,只能观察到一个吸收峰
= 2 \* ROMAN II.磁感应沿【1 1 0】方向,有两个吸收峰
= 3 \* ROMAN III.磁感应沿【1 0 0】方向,有两个吸收峰
= 4 \* ROMAN IV磁感应沿任意方向时,有三个吸收峰
2硅和锗的价带结构
重空穴比轻空穴有较强的各向异性。
2半导体中杂质和缺陷能级
缺陷分为点缺陷,线缺陷,面缺陷(层错等)
1.替位式杂质 间隙式杂质
2.施主杂质:能级为E(D),被施主杂质束缚的电子的能量状态比导带底E(C)低ΔE(D),施主能级位于离导带底近的禁带中。
3. 受主杂质:能级为E(A),被受主杂质束缚的电子的能量状态比价带E(V)高ΔE(A),受主能级位于离价带顶近的禁带中。
4.杂质的补偿作用
5.深能级杂质:
= 1 \* GB2 ⑴非3,5族杂质在硅,锗的禁带中产生的施主能级距离导带底较远,离价带顶也较远,称为深能级。
= 2 \* GB2 ⑵这些深能级杂质能产生多次电离。
6.点缺陷:弗仑克耳缺陷:间隙原子和空位成对出现。
肖特基缺陷:只在晶体内部形成空位而无间隙原子。
空位表现出受主作用,间隙原子表现出施主作用。
3半导体中载流子的分布统计
电子从价带跃迁到导带,称为本征激发。
一、状态密度
状态密度g(E)是在能带中能量E附近每单位间隔内的量子态数。
首先要知道量子态,每个量子态智能容纳一个电子。
导带底附近单位能量间隔内的量子态数目,随电子的能量按抛物线关系增大,即电子能量越高,状态密度越大。
二、费米能级和载流子的统计分布
在T=0K时,费米能级E(f)可看作是量子态是否被电子占据的一个界限。
附图:
随着温度的升高,电子占据能量小于费米能级的量子态的概率下降,占据高于费米能级的量子态的概率上升。
2波尔兹曼分布函数
在E-E(f)K(0)T时,服从波尔兹曼分布(是费米能级的一种简化形式)。
附:导带中电子浓度公式 空穴浓度公式
载流子浓度乘积,对于一定的半导体材料,只与温度有关。
三、本征半导体的载流子浓度
附:本征载流子浓度公式
一定的半导体材料,本征载流子浓度随温度升高;在同一温度,禁带宽度E(g)越大,本征载流子浓度就越小。
四、杂质半导体的载流子浓度
附:电离得施主浓度,受主浓度
可以看出,对于施主杂质,当费米能级远在施主能级下时,可以认为几乎都电离,反之可以认为几乎没有电离,当重合时,施主杂质有1/3电离,2/3没有电离。同理,费米能级在受主杂质能级之上时,完全电离,反之;
N型半导体的载流子浓度
附:电中性条件
各个温度的情况:
= 1 \* GB3 ①低温弱电离区:大部分施主杂质能级被电子占据,只有少量的被激发,称为弱电离。此时导带中的电子完全有电离施主杂质提供。
附 低温弱电路区的费米能级表达式
低温弱电离区E(f)与T的关系
= 2 \* GB3 ②中间电离区
有1/3电离。
= 3 \* GB3 ③强电离区
温度升高至大部分杂质都电离,当施主杂质全部电离时,电子浓度等于施主杂质浓度,载流子浓度与温度无关。载流子浓度保持等于这一浓度的温度范围称为饱和区。
= 4 \* GB3 ④过渡区
半导体处于饱和区与完全本征激发之间。
= 5 \* GB3 ⑤高温本征激发区
此时费米能级接近禁带中线,载流子浓度随温度升高而迅速升高。
附:电子浓度与温度曲线
六、简并半导体
附:简并的条件
简并是杂质没有充分电离。
4半导体导电性
一、载流子的漂移运动 迁移率
迁移率:单位场强下电子的平均漂移速度。
半导体的导电作用是电子和空穴到点作用之和。
附半导体导电率公式
二、载流子的散射
主要由于周期性势场的破坏。
= 1 \* GB3 ①电离杂质散射:由于杂质电离之后带电…散射概率与杂质浓度成正比,与温度成反比。
= 2 \* GB3 ②晶格振动的散射
六、电阻率及其与杂质浓度和温度的关系
= 1 \* ROMAN I.电阻率和杂质浓度
随浓度增加而下降,但不是直线。因为:1 杂质在室温下不能完全电离2迁移率随浓度增加而显著下降。
= 2 \* ROMAN II.电阻率随温
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