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SLL多层介质膜干涉滤光片的镀制
多层介质膜干涉滤光片的镀制
实验日期:2013/11/15指导老师:熊俊
【摘要】在本实验中利用高真空镀膜机在玻璃基片上镀制多层介质膜,实验中选硫化锌(ZnS)为高折射率材料(nH=2.35),冰晶石(Na3AlF6)为低折射率材料(nL=1.35),并采用极值法对膜厚进行监控,镀制膜系为G(HL)32L(LH)3的多层介质膜法布里-珀罗型干涉滤光片,并对制成的滤光片在分光光度计上测量,可得T-λ曲线,从而得到介质干涉滤光片的三个主要参数第一块λ0=591.00nm,Tmax=72.1%,?λ=10.94nm,?λλ=1.85%,第二块λ0=592.00nm
Tmax=70.6%,?λ=11.67nm,?λλ=1.97%,可知?λλ5%,可见得到的两块干涉滤光片均为窄带滤光片。
关键词:高真空镀膜 窄带干涉滤光片 多层介质膜 薄膜检测 分光光度计
引言
自然界中许多色彩斑斓的景物,他们的观赏效果都与透明膜层内反射光波的干涉有关。从发现薄膜的干涉色彩现象起,特别是1930年真空蒸发设备出现以后,人们对薄膜科学技术进行了大量研究。
在光学薄膜技术中,多层多周期的光学薄膜最为突出,而窄带干涉滤光片则是这一技术的最主要应用之一,它是将宽带光谱变为窄带光谱的光学元件。一种典型的干涉滤光片是在玻璃基片上镀制“银-介质-银”三层膜,前后两层银膜构成两个相互平行的高反射率板,介质膜层通常为冰晶石或氟化镁等,作为中间隔层,这种干涉滤光片被称为法布里--珀罗型干涉滤光片。
本实验中要求镀制一块多层介质膜法布里--珀罗型干涉滤光片,并测量其相关参数,通过实验掌握干涉滤光片的原理,并熟悉真空系统的操作和滤光片的镀制过程。
原理
法布里--珀罗型干涉滤光片的基本结构
在干涉滤光片中,设n为间隔层介质折射率,d为该层几何厚度,间隔层的光学厚度为nd决定了滤光片透射峰值波长,nd=mλ02 ,其中m是整数。银层反射率决定了法布里-伯罗干涉腔的精细常数,从而对滤光片的峰值透过率和半宽度产生影响。由滤光片特性曲线图2可见,一半处对应的波长是和,相应透过率的宽度为,称为半高宽,相对半宽度大于的滤光片叫做宽带滤光片,介于5%和1% 之间的叫做窄带滤光片,小于1%的叫做超窄带滤光片。
银有很强的吸收,用银做反射层的“金属-介质”的干涉滤光片的透射率很难高于40%。而用多层介质膜构成的高反射率膜板代替银层构成的干涉滤光片能弥补这一缺点,峰值透过率可以达到80%。这就是全介质型干涉滤光片。
图2透射特性曲线
图1法布里--珀罗型干涉滤光片结构示意图
反射膜
单一界面
光线在单一分界面上的反射光线垂直入射到透明介质界面时,反射系数r和反射率R分别为
r=ni-ntni+nt, (1)
R=r2=(ni-ntni+nt)2, (2)
其中ni、nt分别为两种介质的折射率。在一般情况下,光线以一定的角度入射到分界面上,这时,要对平面内的P波与该平面垂直的S波两种偏振分别计算反射率和透射率,理论计算后得公式对P,S都适用。
定义介质的光学导纳η=|H∥||k×E∥|,其中k为与界面垂直方向的单位矢,H、E分别为磁场强度矢量和电场强度矢量,脚标“”指平行于界面的方向。振幅反射率及能量反射率
r=ηi-ηtηi+ηt (3)
R=r2=(ηi-ηtηi+ηt)2, (4)
与单一界面形式一样,说明利用光学导纳η,使计算时不必考虑垂直入射还是斜入射。由于不论对P还是S,在忽略吸收条件下都有T+R=1,在已知R时可求得T。
单层膜
对于基片上单层膜平行平面薄膜的情况。光线入射时,会在两个界面上产生多光束干涉,.通过计算得其反射情况可看作单一界面的情况,即把n0—n1—n2的单层膜系统看作n0—Y的单一界面来处理,如下图2,3所示,并且仍然可以用(2)式来计算反射率R。Y称为单层膜系统的有效导纳。
图3单层膜的多光束干涉 图4等效截面
单层膜系个各光学参数间的关系可用矩阵表示为:
BC=cosδ1isinδ1η1iη1sinδ1cosδ11η2 (5)
等式右边2×2矩阵为膜层n1的特征矩阵,其中δ1=2πλn1d1cosφ1,称为n1膜层的相位因子,i为虚数单位,2×1矩阵称为基底为n2的特征矩阵。等式左边的矩阵称为膜系的特征矩阵,膜系的有效导纳Y=CB,由此可得单层膜的反射率
R=(η0-Yη0+Y)2 (6)
多层膜
对于多层介质膜系,也可以把膜层n1,n2,…,nk和基底ng等效成有效导纳为Y的单一界面,而(5)式
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