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PVD CVD MOCVD 原理：物理气象沉积是一种物理气象反映生长法．沉积过程是在真空或低气压气体放电条件下，即在80~200℃等离子体条件中进行的．涂层的物质源是固态物质，利用气体放电或加熱的方式使靶材蒸发或电离，经过“蒸发或溅射”后，在电场的作用下，在工件表面生成与基材性能不同的新的固态物质涂层． 沉积层的材料来自固体物质源，采用各种加热源使固体物质变为原子态. 获得的沉积层薄，厚度范围为nm~μm (10-9~10-6 m)数量级，属薄膜范畴. 沉积层是在真空条件下获得的，涂层的纯度高 在低温等离子体条件下产生，沉积层粒子的整体活性大，易与反应气体进行化合反应，获得各种涂层. 5. 沉积层薄，可方便的控制多个工艺参数. 6. 沉积是在真空条件下进行的，没有有害气体排出，属于无污染技术. PVD基本方法：真空蒸发、溅射 、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀） 缺点：由于不同粒子溅射速率不同，所以物理气相沉积薄膜组分控制比较困难。 应用 气象沉积技术生产制备的高硬度，高耐热，高热导，高耐腐蚀，抗氧化，绝缘等涂层，特殊性能的电学，光学功能的涂层，装饰装修涂层，已广泛用于机械、航天、建筑、五金装饰、電子產品、汽配件等行业 CVD(Chemical Vapor Deposition)化学气相沉积原理:指把