平板状氧化铝研磨微粉.doc

平板型氧化铝研磨微粉产品介绍一, 企业概况：郑州晶元电子科技有限公司是专业从事“平板状氧化铝研磨抛光微粉”(WTA系列规格产品)的生产、研发、销售于一体的科技型企业，已通过ISO：9001-2000国际质量标准，具有国际先进水平的生产线和一流的员工队伍,拥有Coulter MultisizerII型粒度分析仪和其它精密的质控仪器。该产品填补了国内在高档磨料上的空白,改变了我国长期依赖进口的局面,现已稳定地供应给美国、日本、韩国、马来西亚、台湾地区以及国内众多企业。公司拥有自主知识产权的WTA（烧结平板状氧化铝研磨粉）产品的专利技术，产品质量等同日本FUJIMI的PWA、美国Microgrit的WCA,居国内领先水平。WTA产品采用独特的生产工艺，使其颗粒尺寸更均匀。WTA的晶体形状为六角平板状，区别于传统磨料的等积型或球形，这种形状使磨料颗粒在研磨运动中平行于被加工工件表面，产生滑动的研磨效果，而非传统磨料的滚动研磨，因而不容易对工件表面产生随机划伤。同时，由于研磨压力是均匀分布在平板状磨粒表面，颗粒破碎减少，耐磨性大幅提高，因而能提供最佳的磨削效率和表面光洁度。实验表明，WTA研磨粉能够减少研磨和抛光次数至少10－20％，能够实现快速研磨和抛光，建议客户在使用时以传统磨料的一半用量为起点。WTA产品特别适合研磨、抛光半导体单晶多晶硅片、显像管玻壳玻屏、水晶、石英玻璃、硬质玻璃、光学玻璃、液晶显示器（LCD）玻璃基板、压电石英晶体、化合物半导体材料（砷化镓、磷化铟）、精密陶瓷材料、高档轴承球、衬、蓝宝石，磁性材料等。同时它还可做烧结陶瓷原料、高档高温涂料(高档油漆,密封胶,化妆品)的填充材料。我公司严格按照ISO9001标准进行产品质量管理，实施全程质量监控，在关键点引入SPC质控体系。同时我公司有先进的检测设备CoulterMultisizerⅡ，产品按日本JIS标准执行，WTA系列产品达到日本Fujimi的PWA标准。产品稳定供应美国、欧洲、日本、韩国及国内客户，国内用户已逐步用我公司产品替代进口。 二, 产品介绍：该研磨抛光微粉是以徳国进口工业氧化铝粉为主要原料,采用特殊矿化剂、高温控制晶粒形状及大小,经特殊处理和严格的分级而制成。硬度仅次于金刚石,是非常优异的精密研磨抛光、研磨微粉。1、平板型氧化铝研磨抛光微粉的性能:平板型氧化铝研磨抛光微粉颗粒呈独特的平板状结构,硬度高达莫氏九级,磨削力强,不易产生划痕,可得到高效率、高精度的被加工表面,有特殊设计的粒度分布,质量和日本FUJIMI公司相当。2、平板型氧化铝研磨抛光微粉的特点1）平板型氧化铝研磨抛光微粉与其它氧化铝研磨抛光微粉的最大区别是：片状，硬度高，粒度均匀。2）特点为：A、形状为平板状，即片状，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间，如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍；B、由于形状为平板状，故对于被磨对象（如半导体硅片等）来说不易划伤，合格品率可提高10%至15%，如半导体硅片，其合格品率一般能达到99%以上；C、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高，故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少，如果磨同样数量的产品，其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%；D、与国外同类产品相比，质量达到或超过国外同类产品，品质已达到国际标准，但产品价格只有国外同类产品的50%；E、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能，故加工的产品合格品率高，质量稳定，生产成本只有原来的50%-60%。（具体数据可见用户报告）3、平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途: 1）电子行业 : 单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研抛。2）玻璃行业 : 硬质玻璃和显象管玻壳的加工。3）涂附行业 : 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。4）金属和陶瓷加工业。 三, 平板状(片状)氧化铝研磨微粉(AL2O3)性能指标： 粒度分布: 粒度分布 微米（μm） 产品 平均粒度（D50值）（由Coulter Counter测试） WTA3 3.1 WTA5 4.8 WTA9 6.5 WTA12 8.0 WTA15 10.5 WTA20 14.5 WTA25 17.5 WTA30 20.5 WTA35 24.5 WTA40 30.5 WTA50 38.0 注明(产品粒度以客户使用要求标准为准) 粒度分布表（以WTA12为例） 标准粒径 实测数值（μm） 规格（μm） 最大粒径（dv-0值） 16.9 23 累积高度3%点的粒径（dv-3值） 13.63 19 累积高度50%点的粒径（dv-50值）