气压对VHF-PCVD制备的μc-Si:H薄膜特性影响的研究.docVIP

  • 6
  • 0
  • 约1.16万字
  • 约 8页
  • 2016-09-28 发布于贵州
  • 举报

气压对VHF-PCVD制备的μc-Si:H薄膜特性影响的研究.doc

气压对VHF-PECVD制备的μc-Si:H薄膜特性影响的研究.txt结婚就像是给自由穿件棉衣,活动起来不方便,但会很温暖。谈恋爱就像剥洋葱,总有一层让你泪流。 本文由wujinfeng05贡献 pdf文档可能在WAP端浏览体验不佳。建议您优先选择TXT,或下载源文件到本机查看。 维普资讯 第 3 卷 第 3期  3 2O O4年 6月   人 工  晶 体  学   报  V 13   No 3 0 .3 .  J RN  0  s j唧 OU AL F 1 r I 1  C YS A S C R T L  Jn 2 o   u e.0 4 气压 对 V -E V HFP C D制备 的  -iH S:   薄膜 特性影 响 的研 究  张晓丹, 朱 张德坤 ,   锋 , 颖 , 国付 , 赵 侯 魏长春 , 建 , 孙  任慧志, 薛俊明, 耿新华 , 熊绍珍  ( 南开大学光 电子所 , 天津 307) 00 1   摘要 : 文主要研究 了用 V FP CD方法制备 的不 同工作气 压的微 晶硅 薄膜 样品 。结 果表 明 : 积速率 随反应 气  本 H -E V 沉 压的增大而逐 渐增大 ; 光敏性 ( 电导 / 电导 ) 光 暗 和激 活能测 试结

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档