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- 2016-09-28 发布于贵州
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气压对VHF-PECVD制备的μc-Si:H薄膜特性影响的研究.txt结婚就像是给自由穿件棉衣,活动起来不方便,但会很温暖。谈恋爱就像剥洋葱,总有一层让你泪流。 本文由wujinfeng05贡献
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第 3 卷 第 3期 3 2O O4年 6月
人
工 晶 体 学
报
V 13 No 3 0 .3 .
J RN 0 s j唧 OU AL F 1 r I
1 C YS A S C R T L
Jn 2 o u e.0 4
气压 对 V -E V HFP C D制备 的 -iH S: 薄膜 特性影 响 的研 究
张晓丹, 朱 张德坤 , 锋 , 颖 , 国付 , 赵 侯 魏长春 , 建 , 孙 任慧志, 薛俊明, 耿新华 , 熊绍珍
( 南开大学光 电子所 , 天津 307) 00 1
摘要 : 文主要研究 了用 V FP CD方法制备 的不 同工作气 压的微 晶硅 薄膜 样品 。结 果表 明 : 积速率 随反应 气 本 H -E V 沉 压的增大而逐 渐增大 ; 光敏性 ( 电导 / 电导 ) 光 暗 和激 活能测 试结
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