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- 2016-10-01 发布于贵州
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通过平衡法测定镀镍铁(镍铁)和微加工硅薄膜的杨氏模量
通过平衡法测定电镀镍铁(镍/铁)和微加工硅薄膜的杨氏模量
Jian Zhang
材料研究与工程研究院,3研究链接,新加坡117602,新加坡日期2000年11月19日
摘要:本文提出的镍/铁杨氏模量变化很大,从101(镍占43%,铁占57%)到(镍占64%,铁占36%)。(110)晶体取向硅悬臂梁的杨氏模量均值大约是164与先前公布的一种简单的测量被塑造成微悬臂梁的杨氏模量的方法(MCBs)。基于此方法,本文中已测定电镀镍/铁薄膜和110晶体取向硅的杨氏模量。首先,介绍平衡法的原理并对这一设置的系统误差进行了分析。接着,使用光阻材料AZ9620做为电镀模具,使用紫外光电铸技术准备了不同的镍/铁摩尔比的独立低压镍/铁悬臂梁(CBs)。微硅悬臂梁同样由湿蚀刻工艺制作。试验结果表明电镀镍/铁薄膜的杨氏模量与工艺条件相关。测量到数据很好地吻合。这种已经发展的方法简单、非破坏性、通用、可用于各种微加工元件的原位测量。2002 Elsevier Science B.V. All rights reserved。[1-17]。这些方法包括用于悬臂梁(CB)测试结构[2,3]上的谐振频率测量技术;直接拉伸应力测量技术[4];用于两端固定梁桥结构的电容/电压测量技术[5];在直接机械弯曲下悬臂梁测试结构上通过一个已知力和测量由此产生的挠度[6];在拉应力和已知的压载[1,4,7]下吊薄膜
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