化学气相沉积技制备粉体材料的研究进展及应用.docVIP

化学气相沉积技术制备粉体材料的研究进展及应用 王 斌，罗康碧 （昆明理工大学化学工程学院，昆明 650093） 摘 要：化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition：简称CVD)是指利用气体原料在气相中通过化学反应形成基本粒子并经过成核、生长两个阶段合成薄膜、粒子、晶须或晶体等固体材料的工艺过程。本文主要论述了化学气相沉积技术的发展历程及其应用领域；重点阐述了CVD技术的基本原理和典型的CVD工艺及其特点；同时分析了CVD技术的优势和缺陷，以及CVD技术的发展趋势，并展望其应用前景。 关键词：化学气相沉积；粉体材料；工艺原理；研究进展；应用 Research Development and Application of Chemical Vapor Deposition Technique in Prepare Powder Materials WANG Bin, LUO Kang-bi (Faculty of Chemical Engineering, Kunming University of Science and Technology, Kunming, 650093) Abstract：Chemical vapor deposition (CVD) refers to the use of raw material gas in the gas