真空镀膜基础知.pptVIP

真空及薄膜基础 麦田^乌鸦. 我们生产的为非晶硅薄膜太阳能电池，了解PECVD设备及工艺需要对真空镀膜有一个了解，并且对半导体物理及薄膜知识有一定的认识。 我们先对薄膜的概念做一个粗略的了解。 薄膜：在严格的学术意义上，认为只有聚集厚度小于某一特征厚度的材料才是真正的薄膜，否则便是一般的薄材料。 特征厚度：是利用物质的某些基本性质在物质聚集厚度很薄的情况下会发生异常变化的现象而确定的，即当被选定为参考的某一物理性质或机械性质开始显示出不同于它通常所具有的特点时的厚度，便是给物质的薄膜特征厚度。 可以认为薄膜是一种二维的材料。 沉积技术：气相沉积（将构成薄膜的物质气化后在沉积到衬底上） 液相沉积（在液体中沉积镀膜） 气相沉积：比较容易控制薄膜的组分 液相沉积：在接近于热平衡的条件下成膜，能获得较好的膜质。 气相沉积又分物理气相沉积（physical vapor deposition）和化学气相沉积 （chemical vapor deposition） 气相沉积成膜的一般过程： 1 原料及衬底的预处理（清洁等） 2 原料的气化 1) 以分子、原子、离子等形态向真空发射(pvd的气化方式) 蒸发、升华 溅射 电离