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- 2016-12-11 发布于重庆
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JYC-100250-3型卧式磁控溅射镀膜设备技术方案
-、主要技术指标
1、有效可镀区面积:1000mm (宽)X2500mm (长)X3~12mm厚 出炉30天内无霉变的玻璃
2、本底真空:2X10-3pa
3. 真空室渗漏量:系统抽真空达到极限真空后,关闭所有阀门,l 小时后真空室压强小于4Pa,
4. 靶尺寸:1200 X 264mm共5条
5. 配大功率磁控电源:60KW有利镀膜稳定共5套
6.生产节拍周期:约1.3min (镀单质膜)
7.冷却水耗量; 25-30m3/h(循环)
8. 压缩空气:0.5-0.8MP;
9. 设备装机总功率:约480KW/平均使用功率约200KW
二、设备主要配置
型 号 JYC-1000-3型卧式磁控溅射镀膜生产线 适用范围 适用于塑料、玻璃等材质平板面或小弧度的表面镀制单层或多层金属膜 主要技术参数 镀膜室极限真空:3.5×10-3Pa;
前后过渡室极限真空:5×10-3Pa;
前后进出口室极限真空:8×10-1Pa;
工件走速:0~3m/min 变频调速;
装机功率:约235KW;
有效可镀工件最大尺寸:1000×2000mm。 结构形式 采用积木式结构,水平连续生产。设备主要由七个真空室组成:一个进料室(粗抽室)、一个前过渡室、一个前缓冲室、三个镀膜室(3节)、一个后缓冲室、一个后过渡室、一个出料室(粗抽室),
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