循环料表面金属杂质.pptxVIP

循环硅料清洗中的表面金属杂质浙江昱辉阳光能源有限公司郭江涛 陈双 蔚建勇 郑志东 主要内容一、硅料清洗的目标及意义二、硅料清洗的一般方法三、取样与测试四、结果与讨论五、问题与展望一、硅料清洗的目标及意义去除或减少硅料表面沾污，包括金属杂质/颗粒/有机物污染；将边皮料/锅底料等循环利用；在保证员工安全/设备安全/环境安全的同时，确保硅料对生产过程影响最小；提高拉晶/铸锭成品率，降低生产综合成本。二、硅料清洗一般方法酸腐蚀： 酸洗操作腐蚀硅料在规模生产中被普遍采用，主要用于去除金属离子和氧化层，尤其以HF+HNO3作为腐蚀液时，几乎可以处理硅料表面的大部分杂质，其反应方程式如下：3Si + 4HNO3 = 3SiO2 + 4NO ↑ + 2H2OSiO2 + 6HF = H2SiF6 + 2H2O总反应为：3Si + 4HNO3 + 18HF = 3H2SiF6 + 4NO ↑+ 8H2O目前，对于硅与混酸反应的化学机理研究已比较深入，通过控制HF与HNO3的配比，实现不同温度下反应速度的调节。HF-HNO3腐蚀速度的分析 HF和HNO3浓度比值的不同，对腐蚀速率影响最大。当HF/HNO3=4.5及比值在其附近时，硅的腐蚀速度最大，溶液中HNO3和HF活性物质温度和扩散系数完全相等，硅的氧化和硅氧化物的溶解都立即发生，即腐蚀液成分相当于电化学反应的化学当量摩尔比时，腐蚀速率最快；