五道光罩制程课程.pptVIP

CF基板 大片組合 TFT基板 20μm 0.7mm =700μm 黏合玻璃的UV膠 紫外線膠照射紫外線後就會產生黏合力,將兩片玻璃黏合 氣囊熱壓 大片組合之基板 熱壓機hot pressor 115~200度C 4小時,一 次可壓18~20片壓完後 ,CF和TFT板之間的距 離變成約4.85μm 二廠使用真空熱壓法 壓力表 4.85μm 切割裂片 13.3“ 320mm 1.8“ 2.5” 4“ 6.1”~6.8“ 第1代面板:長400mm,寬320mm 400mm 面板範圍 裁餘部份, 拋棄不用 720mm 610mm 13.3“~14.1” 15“~17” 19“ 22“~32” 面板範圍 裁餘部份, 拋棄不用 第3.5代面板:長720mm,寬610mm * * 聯友 光電 FAB-1 六 道 光 罩 PANEL LC LCM FAB-2 五 道 光 罩 ARRAY CELL MODULE 一廠 二廠 投片,清洗,薄膜,黃光,蝕刻,測試 清洗,配向,框膠,熱壓,切裂,注入 磨洗貼,FPC,COG,組裝,燒機,F/I 投片,清洗,薄膜,黃光,蝕刻,測試 清洗,配向,框膠,熱壓,切裂,注入 磨洗貼 FPC,COG,組裝,燒機,F/I 甚麼是TFT-LCD ? TFT----薄膜電晶體 Thin Film Transistor LCD----液晶顯示器 Liquid Crystal Display 上偏光板 下偏光板 保護膜 玻璃基板 顏色區 黑色框罩 框膠區 電晶體 液晶 ITO共用極 ITO顯示電極 背光燈管 反射板 菱鏡板 光擴散板 印刷電路板 驅動IC 驅動IC 異方性導電膜 補償電容 間隙粒子 TAB 導光板 GATE 閘 極 SOURCE 源 極 DRAIN 汲 極 ITO 畫素電極 液晶分子 CRYSTAL CF彩色 濾光膜 B.L 背光 一個電晶體(顯示單位) 動作示意圖 偏光板作用及液晶旋光性介紹 一個電晶體顯示 電路示意圖 Data driver Scan driver Array Thin-Film Transistor Cell Liquid Crystal Module Array:電晶體 矩形陣列 Cell:顯示單元體 Module:產品模組 CELL MODULE …. + ARRAY + + + 外購 一廠:320*400(mm) 二廠:610*720(mm) cell cell cell cell cell cell cell 鍍膜(sputter,cvd) 上光阻(coater) 光罩(reticle) 顯影(developer) 顯影 液 對準,曝光(stepper) 蝕刻(etch) 去光阻液 stripper 去光阻 酸, 氣體 TFT循環製程圖解 鍍 下 一 層 膜 上光阻(coating) 鍍第一層膜 空白玻璃 酸A或 氣體A 光罩 TFT循環製程圖解1 對準,曝光(stepping) 顯影 液 顯影(developing) 蝕刻(etching) 顯 影 TFT循環製程圖解2 去光 阻液A 去光阻(striping) 鍍第二層膜 上光阻 對準,曝光 光罩 顯影 液 酸B或 氣體B 蝕刻 TFT循環製程圖解3 去光 阻液B 光阻剝離 鍍第三層膜, 請依之前所 示範的方法 舉一反三,自 行模擬想像 Cr 1.Gate閘極 SIN 2.絕緣層 Via 3.Via ITO 4.畫素電極ITO Al/Cr 5.源極/汲極(SOURCE/DRAIN) Passivation 6.護層Passivation TI/AL/TI S-I-N TI/AL/TI PASSIVATION 1.鍍上 鈦鋁鈦 合金(GATE) 2.S : SiNx (氮矽化合物,絕緣層) I : α-Si (非結晶矽,通道層) N : N+(歐姆接觸) 3.鍍上鈦鋁鈦合金(source,drain) 4.鍍上 5.鍍上ITO(銦錫氧化物,透明畫素電極) (ITO是透明又會導電的物質) SiNx 保護層及做VIA層 ITO 1.GE層 2.AS層 3.SD層 4.BP層 5.TI層 五層合一 玻璃基板 A1 A2 GE (Ti/Al/Ti) AS (SiNx) AS (?-Si) AS (N+) SD (Ti/Al/Ti) BP (SiNx) TI (ITO) Gate (GE) SIN (AS) Source/Drain (SD) Passivation (BP) ITO (TI) 玻璃基板 B1 B2 GE (Ti/Al/Ti) AS (SiNx) SD