RENA设备工艺介绍(光伏太阳能设备资料全)精选.pptVIP

RENA设备与工艺培训 2011-1-9 RENA清洗制绒原理方程： RENA刻蚀原理方程：3SI+4HNO3+18HF——3H2[SIF6]+4NO2+8H2O SIO2+HF——H2[SIF6]+H2O RENA设备：内部和表面绒面 3 RENA运行时的内部状况图 多晶硅片经过制绒后的绒面形貌 注：需要指明的是RENA清洗制绒过程中片子是全部淹没在溶液内的。而在RENA刻蚀过程中片子是漂浮在溶液上的。 RENA设备：外观 4 注：公司一般会根据需要在RENA前后加装上料台、下料台用来代替人工手工放片。 在下料台也会安装吸片装置，用以挑出损坏，破碎的片子。 一.RENA设备：各部分构件介绍 5 Dryer Acidic bath Rinse2 Alkaline bath Rinse3 Keep process temperature stable chillier Etch bath  Rinse1 清洗一槽 碱洗槽 冲洗二槽 酸洗槽 冲洗三槽 干燥 蚀刻槽（主槽） 工作流程 RENA操作界面介绍1： RENA主界面详细说明2： 程序内的日期和时间 模式、与PLC的连接情况及登陆的用户名 灯塔状态 机器名称 厂家名称 报警的详细信息 登陆按扭 RENA设备：外围药液桶 8 注：通过对