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培训大纲 PTH的方式 黑孔(Black Hole)+电镀 化学沉铜+电镀 化学沉铜原理介绍 流程简介 膨松→除胶渣→中和 Desmear 调整→清洁→调整剂→微蚀→ 预浸→活化→加速→化铜 PTH 膨松 NaOH 20g/l 已二醇乙醚 30/l 已二醇 2g/l 水 其余 温度 60-80℃ 时间 5min 膨松 功能:利用溶剂膨松软化树脂胶渣 原理:环氧树脂是高聚形化合物,具有优良的耐蚀性。其腐蚀形式主要有溶解、溶胀和化学裂解(如:浓硫酸对环氧树脂主要是溶解作用,其凹蚀作用是十分明显的)。根据“相似相溶”的经验规律,醚类有机物一般极性较弱,且有与环氧树脂有相似的分子结构(R-O-R‘),所以对环氧树脂有一定的溶解性。因为醚能与水发生氢键缔合,所以在水中有一定的溶解性。因此,常用水溶性的醚类有机物作为去钻污的溶胀剂。 注意点:溶胀液中的氢氧化钠含量不能太高,否则,会破坏氢键缔合,使有机链相分离。 除胶渣 NaOH 35g/l KMnO4 55g/l NaCIO 0.5g/l 温度 75℃ 时间 10min 除胶渣 功能:利用KMnO4的强氧化性,在高温及强碱条件下与树脂发生化学反应,使其分解溶去。 原理:在高温碱性条件下,高锰酸钾使环氧树脂碳链氧化裂解: 4MnO4-+C环氧树脂+4OH-→4MnO42-+CO2↑+2H2O 同时,高锰酸钾发生以下副反应: 4MnO4- +40H- = 4MnO42- + O2(g) + 2H2O MnO42-在碱性介质中也发生以下副反应: MnO42- + 2H2O + 2e- = MnO2(s) + 40H- NACIO作为高锰酸钾的再生剂,主要是利用其强氧化性 使MnO42-氧 化为MnO4- 中和 H2SO4 100mL/l NaC2O4 30g/l 温度 40--50℃ 时间 5--7 min 中和 功能:除去残存在板面及孔壁死角处的MnO2和高锰酸盐。 原理:锰离子是重金属离子,它的存在会引起“钯中毒”,使钯离子或原子失去活化活性,从而导致孔金属化的失败。因此,化学沉铜前必须去除锰的存在。 在酸性介质中: 3MnO42-+4H+ = 2MnO4-+MnO2(s)+2H2O 2MnO4-+5C2O42-+16H+ = 2Mn2++10CO2(g)+8H2O5 C2O42-+MnO2+4H+ = Mn2++2CO2+2H2O 调整 成份:清洁-调整剂 DI水 功能:除去板面轻微氧化物及轻微污渍, 对树脂界面活性调整有极好的效果; 直接影响沉铜的背光效果. 原理:酸性溶液,与氧化物反应而使之溶 去;有机清洁剂,对有机油污具有 溶解作用.整孔性高分子吸附于孔壁表面 使孔壁表面显正电性. 调整 注意点: 应根据生产板面积累加来及时补充药品,达到一定产量后,槽液需要更换,重新开缸; 过滤系统:一般建议除油槽加装过滤系统,不仅可以有效过滤槽液中的粉尘杂质,同时也可有效搅拌槽液,增强槽液对孔壁的清洗调整效果;滤芯一般使用5~10um的PP滤芯,每小时过滤4-6次; 板面经除油水洗后,应该没有油污,氧化斑存在,即为除油效果良好; 板件从除油槽取出时,应注意滴液,尽量减少槽液带出损失,已造成不必要的浪费和增加后清洗的困难度; 除油后水洗要充分,建议采用热水洗后,加1-2道自来水洗; 清洁-调整剂对界面活性的调节机理 微蚀 H2SO4 100mL/l H2O2 80ML/l NH2CH2NH2 10g/l 温度 20 ℃ ~30 ℃ 时间 1~2min 微蚀 功能: a.除去铜表面的有机薄膜; b.微观粗化铜表面。 原理: Cu+ Cu2+ →2 Cu+ Cu++ H2O2 → Cu2++2OH- 微蚀 注意点: 微蚀槽生产主要是注意时间控制,一般时间
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