第一章VLSI设计基础概述ok精选.ppt

教材： [1] 李伟华编著，《VLSI设计基础》，北京：电子工业出版社，2002。 [2] 王志功编著，《VLSI设计》，北京：电子工业出版社，2002。 主要参考书： [1]谢永瑞 《VLSI概论》 北京 清华大学出版社。2002 [2]杨之廉，申明，《超大规模集成电路设计方法学导论》，北京：清华大学出版社，1999。 [3]李兴，《超大规模集成电路技术基础》，北京：电子工业出版社，1999年。 [4]Digital Integrated Circuit___A design perspective JANM BABAEY UC.BerkeleyPrinciples of CMOS [5]Principles of CMOS VLSI Design __A systems perspective Neil H.E Weste and Kamran eshraghian [6]Design of Analog CMOS Integrated Circuits Behzad Razavi UC.Los Angeles 第一章 VLSI设计基础概述 1.1 VLSI设计技术基础与主流制造技术 信息产业值占国民经济总值的40%~60%是支柱 微电子工业是国民经济信息化的基石 集成电路是微电子技术的核心 如果以单位质量的“钢”对国民生产总值的贡献为1来计算，则小轿车为5，彩电为30，计算机为1000，而集成电路则高达2000。 1 5 30 1000 2000 Moore’s Law and Future IC Technologies 集成电路工艺的发展特点 工艺特征尺寸 单个芯片上的晶体管数 芯片面积 电源电压 金属布线层数 时钟频率 器件及互连线延迟 2002年度十大晶圆代工厂排名 IC 设计的发展 设计附属于制造，手工设计。 设计业独立，Fabless， Design House。 设计追求时间和成品率。 soc设计。 EDA（ICCAD）的发展 第一代：七十年代以Applicon, Calma, CV为代表的版图编辑+DRC 第二代：八十年代以Mentor, Daisy, Valid为代表的IC CAD系统，原理图输入、模拟、分析、自动布图及验证 第三代：九十年代以Cadence, Synopsys，Avanti等为代表的EDA系统，包括有系统级的设计工具 第四代：正在研制面向VDSM + System-On-a-Chip的新一代EDA系统 设计和工艺的差距越来越大 目前设计业面临的关键问题： （１）设计方法学的研究：理论和设计流程。 （２）IP核的复用。 （３）功耗、噪声和电迁移的分析工具。 （４）超深亚微米的布图设计工具。 （５）针对大规模芯片的阻、容、感提取工具。 （６）复杂芯片的物理验证、形式验证工具。 （７）确认和测试工具。 四、国内工业界的集成电路设计情况: 近年来，我国IC设计业如雨后春笋般发展，目前，大约有300家设计公司，主要分布在上海及长江三角洲地区、北京及华北东北地区、深圳及珠江三角洲地区和西安、成都等中西部地区。 集成电路设计园区：北京、上海、西安、无锡、杭州、深圳等。 主流设计为0.8μm -1.5μm 。能够达到0.25μm设计水平或百万门级产品设计能力的企业很少。 设计人员10000人。 人数超过50人的设计公司不足40家。 EE141 VLSI集成电路和系统设计 信息系统的集成可分为三个层次：工程层次、电子系统层次和电路层次。 工程层次：如国家信息高速公路等牵动着各种电子系统的开发。 电子系统层次：即为大型信息工程提供设备，又是电路制造商瞄准的主要市场。 电路层次：主要是微电子产品的开发。 一、集成电路的发展 1948年，美国贝尔实验室发明了点接触晶体管 1949年，W?Shockley提出结型晶体管的设想 1951年，制成了第一枚面结型的晶体管 1952