（精）X射线光电子能谱学.ppt

X射线光电子能谱学 射线诱发的光电子能谱技术通常分为两类:紫外光电子能谱(UPS )和X射线光电子能谱(X-Ray Photoelectron Spectroscopy，简称XPS )。 XPS最早是在原子物理实验室用来系统测量各种元素原子的电子束缚能，70年代初超高真空技术开始与XPS相结合。如今XPS已成为材料表面分析的常规工具。由于XPS可用来分析元素的化学状态，所以又称为化学分析用的电子能谱(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis-ESCA)，这个名词强调在X射线电子能谱中既有光电子峰也包含了俄歇峰。 基本原理 1.光电子的发射及其能量 当入射光子的能量hv (h一普朗克常数，v-光波频率)明显超过原子的芯电子束缚能Eb时，可引起光电子发射。光电子的动能为 2.逃逸深度与表面灵敏度 θ是出射方向与表面法线的夹角。可见，垂直表面射出(θ=0)的电子来自最大的逃逸深度， 而近似平行于表面射出的电子则纯粹来自最外表面几个原子层。因此，XPS和AES一样是对表面灵敏的分析技术，采取改变探测角的方法更可以提高表面灵敏度。 基本装置 主要部件有X射线源、样品台、电子能量分析器、电子探测及倍增器，以及将电流转换成可读能谱的数据处理和显示的电子学系统。除电子学系统之外，所有部件都放在超高真空中。 XPS能谱仪的构成 主要： 真空系统； X射线源； 能量分析系统 电子控制系统 数据采集和处理系统 真空系统 为什么需要超高真空？ 电子的平均自由程；（10－5Torr，50m） 清洁表面（10－6torr，1s，原子单层） 场发射离子枪要求 XPS要求：10-8torr以上 真空系统的构成 机械泵：有油污染，噪音，10－3torr 吸附泵：干净，需要液氮，容量小， 10－3torr 油扩泵：价格低，油污染， 10－6－ 10－10torr 涡轮分子泵：体积小，半无油，抽速大，价高 噪音大， 10－8torr 溅射离子泵：高真空，无油，需要前级真空 无噪音，10－11torr 升华泵：抽速高，需要前级真空，消耗性 X射线的产生 X射线源结构 不同射线源的能量和线宽 X射线源的选择 对于一些元素，其结合能较高，选择高能量靶，可以提高信号强度； 对于一些元素，需要高的能量分辨率以及低结合能端的信息，就可以采用低能靶； 对于研究XAES线，一般需要采用高能靶。 低能靶的能量分辨率高，对价带峰和低动能峰有利；高能靶激发能量强，能量分别率差。 Mg/Al双阳极X射线源 能量范围适中（1253.7和1486.7eV） X射线的能量范围窄（0.7和0.85 eV） 能激发几乎所有的元素产生光电子； 靶材稳定，容易保存以及具有较高的寿命 不同X射线源激发的XPS谱 X射线的单色化 X射线均具有很宽的自然宽度，能量分辨率受到限制；必须进行单色化； X射线难以聚焦，单色化很困难； 一般采用Rowland圆晶体进行单色化（衍射方式）。 强度为原来的1%。 容易产生严重荷电效应； 能量分析器 电子能谱的核心部分，要求能精确测定能量； 磁偏转式能量分析器（对环境磁场灵敏，目前不采用）和静电型能量分析器； 分析器外部必须用u金属进行磁场屏蔽； 静电分析器具有四种形式。 分析方式 对于XPS一般采用固定通能方式（FAT），delta E是恒定的； 当能量比较高时，其分辨能力下降；因此，采用减速装置； 对于UPS实验，光电子能力低，不需要预减速处理。 对于UPS和AES，为了提高仪器灵敏度，采用FRR模式（delta E/E恒定），不需要预减速处理。 检测器 光电子信号微弱；10－11A 光电倍增管，多通道板，位置灵敏检测器； 光电倍增管：采用高阻抗，二次电子发射材料，增益：109 离子束溅射 样品表面的清洁； 样品表面层的剥离； Ar离子，氧离子，铯离子，镓离子等 固定溅射和扫描溅射 溅射因素 作为深度分析的离子枪，一般采用0.5～5 KeV的Ar离子源。扫描离子束的束斑直径一般在1～10mm范围，溅射速率范围为0.1 ～50 nm/min。 为了提高深度分辩率，一般应采用间断溅射的方式。 为了减少离子束的坑边效应，应增加离子束的直径。 为了降低离子束的择优溅射效应及基底效应，应提高溅射速率和降低每次溅射的时间。 离子束的溅射还原作用可以改变元素的存在状态，许多氧化物可以被还原成较低价态的氧化物，如Ti, Mo, Ta等 溅射因素： 离子束的溅射速率不仅与离子束的能量和束流密度有关；还与溅射材料的性质有关。 离子束能量低，溅射