半导体行业污染物排放标准..doc

目 次 前言 II 1 范围 1 2 规范性引用文件 1 3 术语和定义 1 4 技术内容 2 5 监测 5 6 标准的实施与监督 9 前 言 为贯彻《中华人民共和国环境保护法》、《中华人民共和国水污染防治法》、《中华人民共和国大气污染防治法》、《中华人民共和国海洋环境保护法》，加强半导体企业污染物的排放控制，保障人体健康，维护生态平衡，结合上海市实际情况，制定本标准。 本标准主要有以下特点：1）适用于半导体企业水污染物、大气污染物排放的管理；2）水污染物排放根据功能区执行分级标准；3）大气污染物排放不根据功能区进行分级；4）对现有半导体企业规定达到挥发性有机物（VOCs）排放标准的时限，对其余污染源不再按建设时间规定排放限值。 半导体企业的噪声控制、固体废物控制按国家和本市的有关规定执行。 本标准实施之日起，半导体企业水污染物排放按本标准执行，不再执行DB31/199-1997《污水综合排放标准》；半导体企业大气污染物排放按本标准执行，不再执行GB16297-1996《大气污染物综合排放标准》。 本标准为首次发布。 本标准由上海市环境保护局提出并归口。 本标准由上海市环境科学研究院和上海市集成电路行业协会负责起草。 本标准由上海市人民政府2006年10月13日批准。 本标准由上海市环境保护局负责解释。 半导体行业污染物排放标准 范围 本标准规定了半导体企业的水污染物和大气污染物排放标准值。 本标准适用于半导体企业的水污染物排放管理、大气污染物排放管理，以及半导体企业建设项目环境影响评价、建设项目环境保护设施设计、竣工验收及其投产后的污染控制与管理。 规范性引用文件 下列标准和本标准表5、表6所列分析方法标准及规范所含的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款，与本标准同效。 GB 3095 环境空气质量标准 GB 3097 海水水质标准 GB 3838 地表水环境质量标准 GB/T 12997 水质 采样方案设计技术规定 GB/T 12998 水质 采样技术指导 GB/T 12999 水质采样 样品的保存和管理技术规范 GB 13271 锅炉大气污染物排放标准 GB/T 16157 固定污染源排气中颗粒物测定与气态污染物采样方法 GB 16297 大气污染物综合排放标准 HJ/T 91 地表水和污水监测技术规范 HJ/T 92 水污染物排放总量监测技术规范 当上述标准和规范被修订时，应使用其最新版本。 术语和定义 下列术语和定义适用于本标准： 半导体企业 semiconductor industry 指从事半导体分立器件或集成电路的制造、封装测试的企业。 特殊保护水域 special protected water area指经国家或上海市人民政府批准的自然保护区范围内水域本市各区、县人民政府规定的居民集中式生活饮用水取水口卫生防护带水域。losed vent system 指可将设备或设备组件排出或逃逸的空气污染物捕集并输送至废气污染防治设备，使传送的气体不直接与大气接触的系统。 现有污染源和新污染源 existing pollutuion source and new pollution source 现有污染源指2007年2月1日前建设的半导体企业。 新污染源指2007年2月1日起建设（包括改、扩建）的半导体建设项目。 建设项目的建设（包括改、扩建）时间，以环境影响报告书（表）批准日期为准。 技术内容 水污染物排放标准 4.1.1标准分级 4.1.2.1 特殊保护水域内不准新建排污口。原有排污口执行表1中的A标准和表2中的特殊保护水域标准GB3838 中III类水域GB3097中第二类海域GB3838 中IV、V类水域和 4.1.3 标准值分类 4.1.3.1 本标准将污染物按其性质及控制方式分成二类。 4.1.3.1.1 第一类污染物，不分污水排放方式和受纳水体的功能类别，一律在车间或车间处理设施排放口采样，其最高允许排放浓度应达到本标准要求。 4.1.3.1.2 第二类污染物，在排放单位排放口采样，其最高允许排放浓度应达到本标准要求。 4.1.3.2 本标准对氟化物、悬浮物（SS）、生化需氧量（BOD5）、化学需氧量（CODCr）、氨氮、总有机碳（TOC）6项污染物均规定了以日均值计的最高允许排放浓度和以瞬时值计的最高允许排放浓度两项指标，这6项污染物的排放应同时遵守上述两项指标。其他污染物的最高允许排放浓度以日均值计。 4.1.4 标准值 半导体企业的水污染物排放执行表1和表2的规定。 表1 第一类污染物最高允许排放浓度(日均值) 单位：m