PECVD减反膜技术.pptVIP

SiNx:H减反射膜 和PECVD技术 * 目录 SiNx:H简介 SiNx:H在太阳电池中的应用 PECVD原理 光学特性和钝化技术 系统结构及安全事项 * SiNx:H简介 正常的SiNx的Si/N之比为0.75，即Si3N4。但是PECVD沉积氮化硅的化学计量比会随工艺不同而变化，Si/N变化的范围在0.75-2左右。除了Si和N，PECVD的氮化硅一般还包含一定比例的氢原子，即SixNyHz或SiNx:H。 * SiNx:H简介 物理性质和化学性质： 结构致密，硬度大 能抵御碱金属离子的侵蚀 介电强度高 耐湿性好 耐一般的酸碱，除HF和热H3PO4 * SiNx:H简介 Si/N比对SiNx薄膜性质的影响 电阻率随x增加而降低 折射率n随x增加而增加 腐蚀速率随密度增加而降低 * SiNx在太阳电池中的应用 自从1981年（Hezel），SiNx开始应用于晶体硅太阳电池： * 减反射膜 * 钝化薄膜（n+发射极） * SiNx在太阳电池中的应用 SiNx的优点： 优良的表面钝化效果 高效的光学减反射性能（厚度和折射率匹配） 低温工艺（有效降低成本） 含氢SiNx:H可以对mc-Si提供体钝化 * SiNx在太阳电池中的应用 * PECV