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- 2017-02-01 发布于湖北
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* 3. 器件仿真:仿真示例 * 3. 器件仿真:仿真示例 * 3. 器件仿真:仿真示例 * 3. 器件仿真: 芯片解剖初步确定器件结构; 器件仿真,对初步确定的结构进行仿真,根据仿真结果进行优化,得到一个优化的结构; 通过工艺方案,获得性能优化的实际器件是研发的最终目的; 工艺仿真可以降低工艺研发成本。 * 主 要 内 容 引 言 芯片解剖 器件仿真 工艺仿真 掩膜版设计 电参数测试 工艺试验与实现 * 4. 工艺仿真: 工艺过程分三大类: 薄膜制备: 金属、半导体、绝缘体膜 CVD,PVD,热氧化 图形转移: 光刻:掩膜版、光刻胶、光刻机 刻蚀:干法、湿法 半导体掺杂: 离子注入、扩散 * 4. 工艺仿真: 完成IGBT芯片制造大约需要20-30步工艺步骤; 前后工艺步骤相互作用、制约: 前期的掺杂会影响后期氧化、刻蚀的速度; 后继各热过程会使前期生成的杂质重新分布。 预获得期望的最终器件结构需要对整个工艺进行整合处理。 如果完全靠实际工艺调整,不仅成本高,且非常耗时。 * 4. 工艺仿真: 工艺仿真可以获得近乎接近实际工艺效果的仿真结果; 通过调节仿真工艺参数,可以快速追踪到切实可行的工艺条件,极大降低工艺成本。 实际工艺实施过程中,只需对少许参数进行控制条件就。 * 4. 工艺仿真 软件支撑: Avanti的Tsuprem4 ISE的Dios 软件仿真优势: 可以随时监控
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