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固体电致发光 概念一 电流通过物质时或物质处于强电场下发光的现象 概念二 电致发光现象是指电能直接转换为光能的一类发光现象,包括注入式电致发光和本征型电致发光。 注入式电致发光:直接由装在晶体上的电极注入电子和空穴,当电子与空穴在晶体内再结合时,以光的形式释放出多余的能量。 注入式电致发光的基本结构是结型(LED) 本征型电致发光:又分为高场电致发光与低场电致发光。 高场电致发光是荧光粉中的电子或由电极注入的电子在外加强电场的作用下在晶体内部加速,碰撞发光中心并使其激发或离化,电子在恢复到基态时辐射发光。 低场电致发光又称为注入式发光,主要是指半导体发光二极管。 无机电致发光材料 在无机电致发光化合物中,目前主要的方向是发展掺杂稀土元素的多色显示材料。这种材料广泛用用于食品期间、音响设备和测控仪器中。 优点:稳定性高 缺点:短波发光有待开发,作为显像管体积太大,大面积平板显示器制作工艺上有困难,发光颜色不易改变,很难提供全色显示等。 有些发光材料本身具有空穴传输层或者电子传输层功能,这样的发光材料也通常被称为主发光体。 发光材料中少量掺杂的有机荧光或者磷光燃料可以接受来自主发光体的能量转移和经由载流子捕获的机制而发出不同颜色的光,这样的掺杂发光通常被成为客发光体或者掺杂发光体。 3.3.1 射频(RF)磁控溅射 3.3.2直流(DC)磁控溅射 3.3.3中频(MF)磁控溅射 旋转靶的优点 靶材利用率最高可达 70% 以上 靶材有更长的使用寿命 更快的溅射速率 杜绝靶中毒现象 三种磁控溅射对比 蓝色电致发光材料 GaN ZnS:Mn 研究最早,高亮度、高效率 发光带谱 540nm~680nm 橙黄色 以射频磁控溅射法制备了Mn的质量分数为0.45%的ZnS:Mn薄膜电致发光器件 绝缘层为 近年来,以溶胶-凝胶法制备了ZnS:Mn薄膜电致发光器件,绝缘层为 发现576nm的发光峰,且700℃退火时发光层结晶度最好,发光效率较高。 ZnS:Tb 亮度仅次于ZnS:Mn,发光光谱很窄,峰值在540nm附近,绿色 以射频磁控溅射法值得高亮度绿色ZnS:Tb薄膜电致发光器件 磁射功率密度、衬底温度、退火温度分别为4.39W/cm2、150℃、和550℃时,发光层的结晶质量较好,最高亮度可达830cd/m2 :Ge 新型电致发光材料 用射频磁控溅射法观察到Ge纳米镶嵌薄膜和Si纳米镶嵌薄膜的红光EL 峰位都在640nm左右 射频磁控法制备锗/氧化硅纳米多层薄膜 Er3+4f层电子内部跃迁导致的1.54μm附近发光峰恰好落在石英光纤吸收最小窗口,而且Er发光波长基本上不依赖于基质和温度,用电镀法将Er引入多孔硅中,然后将其高温氧化成富硅氧化硅得到掺铒氧化硅1.54μm电致发光。 蓝色电致发光材料 GaN 带隙宽、强化学键、耐高温、抗腐蚀 制作短波长高亮度发光器件、高温晶体管、高功率晶体管和紫外光探测器的理想材料 为了进一步优化器件性能,需要对载流子的产生、电荷的运输和倍增、碰撞激发过程、发光中心的重新复合特性等作深入的研究 为提高器件发光效率,对器件本身设计、膜的制备方法等也需要深入研究 在三基色(R、G、B)中发蓝光的材料较少,应努力寻找新的蓝光材料,提高发光效率 * 1.电致发光概念介绍 3.磁控溅射法简介 2.电致发光材料介绍 5.无机电致发光材料前景 4.电致发光材料举例 1.电致发光概念介绍 无机电致发光材料 有机电致发光材料 小分子 大分子 从发光材料角度 从在OLED器件中的功能及器件结构的不同分类 电致发光材料 空穴注入层材料 空穴传输层材料 发光层材料 电子传输层材料 电子注入层材料 2.电致发光材料介绍 电致发光材料 空穴注入层材料 空穴传输层材料 发光层材料 电子传输层材料 电子注入层材料 无机电致发光材料 有机电致发光材料 小分子 大分子 从发光材料角度 从在OLED器件中的功能及器件结构的不同分类 电致发光材料 空穴注入层材料 空穴传输层材料 发光层材料 电子传输层材料 电子注入层材料 3.1 磁控溅射原理 3.磁控溅射法简介 3.2磁控溅射优点 3.2磁控溅射分类 3.1 磁控溅射原理 3.1.1 放电方式:直流辉光放电 低频交流辉光放电 射频辉光放电 直流辉光放电 右图为直流辉光放电的发光区电位分布及净空间电荷沿极间距的分布图。 低频交流辉光放电 在频率低于50KHz的交流电压下,离子有足够的活动能力且有充分的时间,在每个半周期在各个电极上建立直流辉光放电。其机理基本上与直流辉光放电相同。 射频辉光放电在辉光放电
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