第六章 光敏高分子材料重点.pptVIP

第六章  光敏高分子材料 第一节 概述 光敏高分子材料（Photosensitive polymers）是指在光的作用下能够表现出特殊性能的聚合物。 包括的范围很广，如光致抗蚀剂、高分子光敏剂、光致变色高分子、光导电高分子、光导高分子、高分子光稳定剂和高分子光电子器件等功能材料。 许多物质吸收光子以后，可以从基态跃迁到激发态。处在激发态的分子容易发生各种变化。这种变化可以是化学的，如光聚合反应或者光降解反应，我们称研究这种现象的科学为光化学。变化也可以是物理的，如光致发光或者光导电现象，我们称研究这种现象的科学为光物理。 研究在高分子中发生的这些过程的科学我们分别称其为高分子光化学和高分子光物理。 光的吸收需要一定的分子结构条件，分子中对光敏感，能吸收紫外线可见光的部分被称为发色团。 Jablonsky光能耗散图 光敏剂的作用机理 二、高分子光化学反应类型 能够进行链聚合的线性聚合物和单体有三类： 第二节 光敏涂料和光敏胶 预聚体通常为分子量较小的低聚物，或者为可溶性线性聚合物，为了取得一定粘度和合适的熔点，分子量一般要求在1000一5000。 3．化学稳定性 包括耐受化学品和抗老化的能力。涂料的化学成分不同对不同的化学品有不同的耐受能力。 光刻工艺不仅应用于印刷电路板和集成电路的制作，也用于印刷制版业，根据不同工艺过程可以制备印刷用凸版和平版。